[发明专利]一种盆花芍药的矮化栽培技术在审

专利信息
申请号: 201910875859.X 申请日: 2019-09-17
公开(公告)号: CN110476766A 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 于晓南;董志君;张建军;范永明;朱炜;陈莉祺;程堂仁;张启翔 申请(专利权)人: 北京林业大学
主分类号: A01G22/60 分类号: A01G22/60;A01G24/15;A01G24/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 喷施 温室栽培 植物生长延缓剂 观赏性状表现 矮化栽培 操作便利 管理流程 盆栽芍药 园林应用 重要意义 盆栽 植株 盆栽苗 芍药 矮化 盆花 冷藏 观赏 拓展
【说明书】:

本发明公开了一种盆花芍药的矮化栽培技术,包括如下步骤:(1)盆栽苗的选择、准备、处理及冷藏;(2)温室栽培及喷施植物生长延缓剂。本发明方法提供了完整的盆栽矮化管理流程及喷施方法,确定了最适的喷施浓度,利用该方法植株效果显著,观赏性状表现良好,且操作便利,成本低,对进一步提升盆栽芍药的观赏价值、拓展其园林应用范围具有重要意义。

技术领域

本发明属于花卉栽培技术领域,涉及芍药的矮化方法,具体涉及一种盆花芍药的矮化栽培技术。

背景技术

芍药(Paeonia lactiflora)为芍药科芍药属多年生宿根草本花卉,是我国一种重要的传统名花,具有重要的药用和观赏价值,备受我国和世界人民的喜爱。目前,切花芍药在花卉市场所占比重越来越大,随着人们生活水平的提高,对盆花芍药的需求也日益迫切。我国芍药品种丰富多彩,但大都株型较大、较散,并不适合室内盆栽观赏,严重影响其园林应用和观赏价值。因此,适当地控制盆栽芍药的生长、调整盆栽芍药的株型,对补充切花芍药的不足、丰富芍药的应用形式、提高芍药的观赏价值、满足市场的需求很有必要。矮化是一种重要的性状,是高大植物材料理想株型的一个重要方面。目前关于芍药矮化方面的研究,国内外鲜有报道,仅有前人进行过部分矮化处理,但未成体系。本专利参考前人在百合、牡丹、小苍兰等植物上进行的矮化试验,选择通过化学手段即应用植物生长延缓剂来达到矮化芍药的目的。

植物生长延缓剂,也称为植物生长调节物质,是一类由人工合成的,能够使植株矮小、茎粗、叶面积小、叶色加深等等,而不影响花发育的化学物质,其特点有剂量低、用量少、见效快等。常见的植物生长调节剂有多效唑、烯效唑、矮壮素等。

综上所述,找到合适的植物生长调节剂及剂量,在适合的时期采用恰当的施用方法,从而使盆栽芍药达到矮化的效果。

发明内容

本发明涉及一种盆花芍药的矮化栽培技术,包括如下步骤:

(1)盆栽苗的选择、准备、处理及冷藏;

(2)温室栽培及喷施植物生长延缓剂。

在上述技术方案中,步骤(1)所述盆栽苗品种为成花率高,花型端庄,花色鲜艳,株形紧凑的早花品种。

优选地,步骤(1)所述盆栽苗的处理,具体为:9-10月份剪除植株地上枯萎部分,将植株根部掘起,清除泥土,用菜刀纵向切割进行分株,每株保留7-8个芽,将分株苗浸泡在80%多菌灵800倍液中15分钟进行消毒,取出后在阴凉处晾晒(2-3天)至根系变软以备用。所用工具菜刀刚性强、锋利、易获得且分株苗伤口平整;消毒可以防止病菌感染以保证盆花的观赏效果。

进一步优选地,步骤(1)所述盆栽苗的准备,具体为:选择盆径为25-27cm(上口径为25cm,下口径为27cm),盆高为28-30cm的花盆,较深较广的花盆可保证盆栽苗生长健壮。基质配比为泥炭:蛭石:珍珠岩=3:1:1,这样获得的栽培基质疏松、肥沃且富含腐殖质。盆底先铺3-4cm所配基质,再将处理好的种苗置于盆中,逐渐填入基质并压实至芽淹没3-4cm,这样做可以降低根系发生病害的可能性。其中,基质中混入少量鸡粪颗粒(作基肥)、多菌灵(消毒)和清水(保证基质湿润),初次栽培后浇一次透水,以后浇水按照基质“干透浇透”原则即可,防止根系因浇水过多腐烂。

再进一步优选地,步骤(1)所述盆栽苗的冷藏,具体为:将上述基质干透后的盆栽苗放入冷库进行冷藏,温度设置范围为2-6℃,平均温度为4℃,湿度控制为80%-90%,冷藏约5周,满足花芽需冷量并打破休眠,保证开花品质。

优选地,步骤(2)所述盆栽苗的温室栽培,包括光照、温度及湿度控制管理,保证植株正常生长所需环境条件。

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