[发明专利]玻璃件及其制备方法、玻璃壳体组件和电子设备

权利要求书

1.一种制备玻璃件的方法，其特征在于，包括：

使玻璃原片的切割端面与刻蚀液接触，对所述切割端面进行刻蚀，以便得到所述玻璃件，其中，所述刻蚀液包括：

氟化铵和氟化氢铵中的至少一种；

硼酸；及

水，

所述刻蚀液中不含有强酸和氢氟酸。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，使所述玻璃原片的切割端面与所述刻蚀液接触包括：

在所述玻璃原片相对的第一表面和第二表面上形成保护层；

将设有所述保护层的所述玻璃原片置入所述刻蚀液中。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述刻蚀液包括：

10～30体积份的氟化铵溶液和氟化氢铵溶液中的至少一种，所述氟化铵溶液和氟化氢铵溶液的质量浓度分别为20％～35％；

5～15体积份的硼酸溶液，所述硼酸溶液的质量浓度为10％～20％；

60～87体积份的水。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述刻蚀液还包括：

8～20体积份的络合剂溶液，所述络合剂溶液的质量浓度为5％～15％，

任选的，所述络合剂选自乙二胺四乙酸二钠。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述刻蚀的时间为10～20分钟。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，还包括：将所述刻蚀之后的玻璃产品依次在碱性溶液、酸性溶液和水中进行清洗，其中，所述酸性溶液包括硫酸和盐酸中的至少一种。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，去除所述保护层，对所述第一表面和所述第二表面进行化学强化处理。

8.根据权利要求1、2或7所述的方法，其特征在于，还包括：在所述刻蚀之后的所述切割端面设置光学胶层，

任选的，所述光学胶层的厚度为0.05～0.2微米。

9.一种玻璃件，其特征在于，所述玻璃件是由权利要求1～8中任一项所述的方法制备的。

10.一种玻璃件，其特征在于，所述玻璃件的侧端面具有凸起或凹陷，所述凸起的高度或所述凹陷的深度小于或等于600纳米。

11.根据权利要求9或10所述的玻璃件，其特征在于，所述侧端面的表面粗糙度Ra小于或等于5纳米。

12.根据权利要求9或10所述的玻璃件，其特征在于，所述玻璃件的跌落能量大于或等于1.5J。

13.根据权利要求9或10所述的玻璃件，其特征在于，所述侧端面设置有光学胶层。

14.一种玻璃壳体组件，其特征在于，所述玻璃壳体组件的至少一部分是由权利要求9～13中任一项所述的玻璃件构成。

15.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求14所述的玻璃壳体组件；

显示屏组件，所述显示屏组件与所述玻璃壳体组件相连，所述显示屏组件和所述玻璃壳体组件之间限定出安装空间；以及

主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。