[发明专利]一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置

说明书

本发明涉及机械设备领域，具体涉及到一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置。该清洗装置包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。

技术领域

本发明涉及机械设备领域，具体涉及到一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标位置上)的机器。而这种光刻机等设备(如浸没式光刻机)的投影隔水罩，以及硅片晶元平台等经常与带有光刻胶的硅片接触，带来投影隔水罩脏污，硅片台上有颗粒物导致硅片畸变等问题，导致高精度设备的作业精度、硅片的处理工艺等受到较严重的影响。因此需要对该经常与光刻胶等接触的，容易被污染的特殊部件进行清洗。现有技术中对此类设备的清洗主要是采用大理石打磨或者整个部件浸泡清洗，费时费力，效率比较低而且由于大理石打磨采用的是接触式清理，因而存在损坏部件的风险。

发明内容

针对上述技术问题，本发明的第一方面提供了一种非接触式超声清洗装置，包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。

作为一种优选的技术方案，所述非接触式超声清洗装置还设置有气体循环装置。

作为一种优选的技术方案，所述气体循环装置设置在所述清洗液循环装置的吸水口与气浮装置之间。

作为一种优选的技术方案，所述气体循环装置上设置有向内方向的进气口和竖直方向的出气口。

作为一种优选的技术方案，所述清洗装置上设置有砝码。

作为一种优选的技术方案，所述导轨通过旋转支柱与所述支架连接。

作为一种优选的技术方案，所述可移动挂片通过移动装置与所述导轨连接。

作为一种优选的技术方案，所述导轨包括横向导轨和纵向导轨；所述横向导轨固定设置在所述支架上；所述纵向导轨通过移动装置设置在所述横向导轨上。

作为一种优选的技术方案，所述移动装置为卡槽式移动装置、滑动式移动装置或滚动式移动装置。

本发明的第二个方面提供了如上所述非接触式超声清洗装置在光刻设备清洗工艺中的应用。

有益效果：本发明中通过对清洗装置的清洗液循环装置、气浮装置、气体循环装置等的巧妙设计，利用清洗液循环装置、超声发生器、导轨和支架，一方面避开易泄露清洗液的凹点，另一方面可以将整个光刻设备等高精度设备的易沾污部件表面全部充分清洗的同时，利用气浮装置和砝码有效调控清洗装置与被清洗物之间的距离，避免清洗装置与被清洗物表面的直接接触，避免对被清洗物造成二次污染或损坏。同时，巧妙设置气体循环装置，在清洗装置和被清洗物表面形成气刀，避免清洗液泄漏到硅片台上，造成浪费和进一步污染问题。

附图说明

图1是本发明中非接触式超声清洗装置的清洗装置结构示意图。

图2是本发明实施例1中的非接触式超声清洗装置的结构示意图。

图3是本发明实施例2和3中的非接触式超声清洗装置的结构示意图。