[发明专利]一种在曲面材料上镀膜的装置及方法

权利要求书

1.一种曲面镀膜装置，其特征在于:包括公转转盘旋转装置、被镀样品自转装置、膜厚修正装置。公转转盘旋转装置包括公转转盘以及驱动公转转盘转动的公转齿轮，所述公转齿轮与公转转盘内侧啮合；公转转盘上设有被镀样品固定架，通过公转齿轮驱动公转转盘转动，从而将被镀样品固定架上的被镀样品旋转到磁控靶前方溅射镀膜。被镀样品自转装置包括位于被镀样品固定架上的自转转盘、被镀样品固定架底部的轴承座、以及驱动自转转盘转动的自转齿轮；所述自转齿轮位于公转转盘上方，其外侧与自转转盘啮合，所述轴承座固定在公转转盘上，通过自转齿轮驱动自转转盘转动，从而使得被镀样品固定架在轴承座上发生转动，被镀样品自转的目的是为了获得横向上厚度均匀的薄膜。膜厚修正装置包括修正板以及修正板固定架，所述修正板固定架设置在公转转盘上，修正板固定架与被镀样品固定架平行，修正板位于磁控靶与被镀样品之间。所述修正板是根据被镀样品的曲面形状及靶材的尺寸经计算设计而得的，其目的是为了获得径向上厚度均匀的薄膜。

2.根据权利要求1所述的曲面镀膜装置，所述修正板是根据被镀样品的曲面形状及靶材的尺寸经计算设计而得的。

3.根据权利要求1所述的曲面材料上镀膜装置的使用方法，其特征在于：

首先安装被镀样品到被镀样品固定架上，然后开始抽真空，真空达到以后，往真空室内冲入反应惰性气体；然后使固定在公转转盘装置上的被镀样品固定架旋转到靶的正前方后停止转动，然后使被镀样品固定架开始自转，然后启动靶开始镀膜。