[发明专利]一种在曲面材料上镀膜的装置及方法

说明书

本发明涉及一种在曲面材料上镀膜的技术，具体涉及一种利用真空镀膜设备在曲面材料表面镀膜的方法。首先安装被镀样品到被镀样品固定架上，然后开始抽真空，真空达到以后，往真空室内充入反应惰性气体。靶材进行预溅射，待预溅射结束，使固定在公转转盘装置上的被镀样品固定架旋转到靶的正前方后停止转动，然后使被镀样品固定架开始自转。然后启动正式溅射开始镀膜。本发明的镀膜装置及方法可以在曲面基材上镀制出均匀的薄膜。本发明的镀膜装置及方法可以按需要在曲面上镀制多层薄膜。本发明的装置结构简单，易于实现大面积生产。

技术领域

本发明涉及一种在曲面材料上镀膜的技术，具体涉及一种利用真空镀膜设备在曲面材料表面镀膜的方法。

背景技术

长期以来，因为国民经济的不断提高及人民生活水平的改善，镀膜工业在国民经济的地位和作用越来越重要，真空镀膜涂层广泛应用于航空航天、汽车、机床、化工机械、船舶制造、动力设备、五金工具、医疗器械、标准件制造等领域。对于产品镀膜的要求越来越多，市场需求越来越大，镀膜设备种类也越来越复杂，需要镀膜的产品形状也各不相同。真空镀膜主要是镀平面的产品，而对于一些异型的产品比如曲面的产品是很难达到均匀性的。随着这方面的需求越来越多，如智能终端、曲面玻璃、球面等，所以急需找到一种能在曲面产品上采用真空镀膜的方式来进行镀膜的方法。

CN107299329A提出一种方法，在镀膜过程中通过对曲面盖板绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制，以达到镀膜均匀性的目的。这种方法对横向曲面的均匀镀膜比较有效，但对于纵向曲面的均匀镀膜无法实现。CN109502989A提出一种曲面镀膜装置，包括可转动设置的工作台、设置在工作台上的挂板、与挂板正对设置的靶材喷头以及设置在挂板和靶材喷头之间的修正部件。修正部件可以在纵向曲面上实现相对均匀的镀膜，不过这种装置样品架固定安装，因此一次只能进行单个靶材的镀膜，不能实现对曲面镀制多层膜的需要。

基于此，本发明通过设备改进以及使用膜厚修正装置使在曲面产品上镀制均匀的薄膜成为可能。

发明内容

本发明解决的技术问题是：提出一种解决现有的真空镀膜机不能解决曲面镀膜产品所要求的均匀性及镀膜多样性的问题。比如球面、头盔护目镜等曲面产品。

为了解决上述技术问题，本发明提出的技术方案是：本申请的技术方案如下：

一种放置在真空室内的曲面镀膜装置，包括公转转盘旋转装置、被镀样品自转装置、膜厚修正装置。

公转转盘旋转装置包括公转转盘以及驱动公转转盘转动的公转齿轮，所述公转齿轮与公转转盘内侧啮合；公转转盘上设有被镀样品固定架，通过公转齿轮驱动公转转盘转动，从而将被镀样品固定架上的被镀样品旋转到磁控靶前方溅射镀膜。

被镀样品自转装置包括位于被镀样品固定架上的自转转盘、被镀样品固定架底部的轴承座、以及驱动自转转盘转动的自转齿轮；所述自转齿轮位于公转转盘上方，其外侧与自转转盘啮合，所述轴承座固定在公转转盘上，通过自转齿轮驱动自转转盘转动，从而使得被镀样品固定架在轴承座上发生转动，被镀样品自转的目的是为了获得横向上厚度均匀的薄膜。

膜厚修正装置包括修正板以及修正板固定架，所述修正板固定架设置在公转转盘上，修正板固定架与被镀样品固定架平行，修正板位于磁控靶与被镀样品之间。所述修正板是根据被镀样品的曲面形状及靶材的尺寸经计算设计而得的，其目的是为了获得径向上厚度均匀的薄膜。

首先安装被镀样品到被镀样品固定架上，然后开始抽真空，真空达到以后，往真空室内充入反应惰性气体。靶材进行预溅射，待预溅射结束，使固定在公转转盘装置上的被镀样品固定架旋转到靶的正前方后停止转动，然后使被镀样品固定架开始自转。然后启动正式溅射开始镀膜。

本发明的有益效果：

1.本发明的镀膜装置及方法可以在曲面基材上镀制出均匀的薄膜。