[发明专利]一种调整光栅刻刀方位角的方法

权利要求书

1.一种调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，包括：

预先根据光栅刻刀方位角要求对光栅刻刀的方位角进行调整，将所述光栅刻刀安装在划刻机中，并利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线；

利用形貌扫描仪对所述刻线进行扫描，以得到所述刻线的截面图；

根据所述截面图计算与所述刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积；

将所述第一隆起面积、所述第二隆起面积与预先建立起的隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表进行对照，通过所述关系表得到所述光栅刻刀的当前方位角；

判断所述当前方位角是否满足所述光栅刻刀方位角要求，若否，则根据所述当前方位角及所述光栅刻刀方位角要求对所述光栅刻刀的方位角进行调整，并返回执行所述利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线的步骤，直至所述当前方位角满足所述光栅刻刀方位角要求为止；

预先建立隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表，包括：

预先设置多个不同的光栅刻刀方位角；

获取每个所述光栅刻刀方位角对应的理论光栅槽形；

根据所述理论光栅槽形计算所述理论光栅槽形两侧的隆起面积；

利用所述光栅刻刀方位角、与所述光栅刻刀方位角对应的隆起面积建立所述关系表。

2.根据权利要求1所述的调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，根据所述截面图计算与所述刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积，包括：

根据所述截面图分别对所述第一隆起处的轮廓形状、所述第二隆起处的轮廓形状进行拟合，以得到与所述第一隆起处对应的第一曲线函数、与所述第二隆起处对应的第二曲线函数；

通过所述第一曲线函数得到所述第一隆起面积，通过所述第二曲线函数得到所述第二隆起面积。

3.根据权利要求1所述的调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，所述光栅刻刀方位角的步长为预设分度值。

4.根据权利要求1所述的调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线，包括：

利用所述光栅刻刀在所述基底的不同位置处划刻备选刻线；

利用形貌扫描仪对所述刻线进行扫描，包括：

利用所述形貌扫描仪分别对不同位置处的所述备选刻线进行扫描，以得到与每个所述备选刻线对应的备选截面图；

从所述备选截面图中选取轮廓形状最好的一个备选截面图作为所述截面图。

5.根据权利要求4所述的调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，利用所述形貌扫描仪分别对不同位置处的所述备选刻线进行扫描，包括：

利用所述形貌扫描仪对预设区段的所述备选刻线进行扫描。

6.根据权利要求5所述的调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，所述形貌扫描仪为原子力显微镜或扫描电子显微镜。