[发明专利]一种调整光栅刻刀方位角的方法

说明书

本申请公开了一种调整光栅刻刀方位角的方法，包括：利用光栅刻刀在基底上划刻刻线；利用形貌扫描仪对刻线进行扫描，得到刻线的截面图；根据截面图计算与刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积；根据第一隆起面积、第二隆起面积、隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表得到光栅刻刀的当前方位角；判断当前方位角是否满足光栅刻刀方位角要求，若否，对光栅刻刀的方位角进行调整。本申请公开的上述技术方案，通过第一隆起面积、第二隆起面积及关系表实现定量化地获取到光栅刻刀的当前方位角，并根据当前方位角对光栅刻刀的方位角进行调整，以提高光栅刻刀方位角判断和调整的准确性，提高光栅刻刀方位角调整的效率。

技术领域

本申请涉及光栅制作技术领域，更具体地说，涉及一种调整光栅刻刀方位角的方法。

背景技术

在光栅制作过程中，常需要利用光栅刻刀在镀有金属膜层的光栅基底上对膜层进行挤压抛光而得到光栅，其中，光栅刻刀自身的结构参数和调整参数将会对光栅的槽形造成影响，进而会对刻划光栅的性能指标造成影响，因此，需要对上述参数进行判断和调整，以减少其对光栅所带来的影响。其中，光栅刻刀的调整参数主要包括方位角、定向角和俯仰角，这些角度的调整精度将直接影响到光栅的质量。

目前，对于光栅刻刀方位角而言，一般是通过如下方式进行判断和调整：在光栅基底上刻划两条具有一定间隔的刻线，并在两条刻线之间压制数个光栅刻刀的刃型，然后，刻划数条刻线，通过人为在显微镜下观察光栅刻刀的刃型与两条刻线之间的关系以及数条刻线的质量来判断方位角是否满足要求，如果不满足要求，则对光栅刻刀的方位角进行调整，然后，重复执行上述过程直至方位角满足要求为止。在上述过程中，由于是人为通过显微镜进行定型观察来判断方位角是否满足要求的，因此，会不可避免地存在观察误差，从而会降低光栅刻刀方位角判断的准确性，相应地，则可能会降低调整后的光栅刻刀的方位角的准确性，进而会降低最终所制备出的光栅的质量。另外，由于方位角判断不准确，则需要反复执行上述刻划、判断及调整的步骤，因此，会降低光栅刻刀方位角调整的效率。

综上所述，如何提高光栅刻刀方位角判断及调整的准确性，并便于提高光栅刻刀方位角调整的效率，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本申请的目的是提供一种调整光栅刻刀方位角的方法，用于提高光栅刻刀方位角判断及调整的准确性，并便于提高光栅刻刀方位角调整的效率。

为了实现上述目的，本申请提供如下技术方案：

一种调整光栅刻刀方位角的方法，包括：

预先根据光栅刻刀方位角要求对光栅刻刀的方位角进行调整，将所述光栅刻刀安装在划刻机中，并利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线；

利用形貌扫描仪对所述刻线进行扫描，以得到所述刻线的截面图；

根据所述截面图计算与所述刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积；

将所述第一隆起面积、所述第二隆起面积与预先建立起的隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表进行对照，通过所述关系表得到所述光栅刻刀的当前方位角；

判断所述当前方位角是否满足所述光栅刻刀方位角要求，若否，则根据所述当前方位角及所述光栅刻刀方位角要求对所述光栅刻刀的方位角进行调整，并返回执行所述利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线的步骤，直至所述当前方位角满足所述光栅刻刀方位角要求为止。

优选的，根据所述截面图计算与所述刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积，包括：

根据所述截面图分别对所述第一隆起处的轮廓形状、所述第二隆起处的轮廓形状进行拟合，以得到与所述第一隆起处对应的第一曲线函数、与所述第二隆起处对应的第二曲线函数；