[发明专利]研磨浆供应系统及无尘室

权利要求书

1.一种研磨浆供应系统，应用于制造半导体元件的化学机械研磨工艺中提供所需的研磨浆，其特征在于：所述研磨浆供应系统包括供应装置和微波单元；

所述供应装置包括研磨浆输入端、用于输出所述研磨浆至研磨机台的研磨浆输出端、设置在所述研磨浆输入端与所述研磨浆输出端之间的用于供应研磨浆的其他功能部件、以及连接所述研磨浆输入端、所述其他功能部件与所述研磨浆输出端的传输管；

所述微波单元至少向所述供应装置的所述其他功能部件及所述传输管中的研磨浆发射微波。

2.如权利要求1所述的研磨浆供应系统，其特征在于，所述微波单元位于所述供应装置的外部。

3.如权利要求2所述的研磨浆供应系统，其特征在于，所述微波单元沿所述传输管的排列方向设置。

4.如权利要求2所述的研磨浆供应系统,其特征在于：所述传输管包括沿横向方向排列的第一传输管及沿纵向方向排列的第二传输管，所述微波单元对应所述第一传输管的位置设置。

5.如权利要求1所示的研磨浆供应系统，其特征在于，所述微波单元发射的微波的频率为1.0GHz～4.0GHz。

6.如权利要求1所示的研磨浆供应系统，其特征在于，所述微波单元的输入电压为AC220V或AC110V，所述微波单元的输出功率为1000W～7000W。

7.如权利要求5所示的研磨浆供应系统，其特征在于，所述其他功能部件包括存储槽、混合槽及供应槽；

所述存储槽连接所述研磨浆输入端，用于存储研磨浆；所述混合槽用于混合来自所述存储槽中的研磨浆；所述供应槽接收来自所述混合槽的研磨浆，并借由所述研磨浆输出端向研磨机台供应所述研磨浆。

8.一种无尘室，所述无尘室包括用于设置供应研磨浆的供应装置的无尘空间，所述无尘空间包括底面、侧壁和顶面，所述供应装置放置在所述底面上，其包括接收研磨用研磨浆的研磨浆输入端、用于输出所述研磨浆至研磨机台的研磨浆输出端、设置在所述研磨浆输入端与所述研磨浆输出端之间的用于供应研磨浆的其他功能部件、及连接所述研磨浆输入端、所述其他功能部件及所述研磨浆输出端的传输管，其特征在于：所述无尘室进一步包括微波单元，所述微波单元设置于所述无尘空间的所述底面、侧壁和顶面中的至少一者。

9.如权利要求8所述的无尘室，其特征在于：所述微波单元平行所述传输管设置。

10.如权利要求8所述的无尘室，其特征在于：所述传输管包括沿横向方向排列的第一传输管及沿纵向方向排列的第二传输管，至少一个微波单元对应所述第一传输管的位置设置，至少一个。