[发明专利]研磨浆供应系统及无尘室在审

申请号：	201910891240.8	申请日：	2019-09-20
公开（公告）号：	CN112536722A	公开（公告）日：	2021-03-23
发明（设计）人：	李善雄	申请（专利权）人：	夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
主分类号：	B24B57/02	分类号：	B24B57/02
代理公司：	深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334	代理人：	彭辉剑;龚慧惠
地址：	266000 山东省青岛市黄岛区***	国省代码：	山东;37
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摘要：
搜索关键词：	研磨供应系统无尘室
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【说明书】：

本发明提供一种研磨浆供应系统，所述研磨浆供应系统包括供应装置和微波单元；所述供应装置包括接收研磨用研磨浆的研磨浆输入端、用于输出所述研磨浆至研磨机台的研磨浆输出端、设置在所述研磨浆输入端与所述研磨浆输出端之间的其他功能部件、及连接所述研磨浆输入端、所述其他功能部件及所述研磨浆输出端的传输管，所述微波单元至少向所述供应装置的所述其他功能部件及所述传输管中的研磨浆发射微波。本发明还提供一种无尘室。本发明的研磨浆供应系统通过微波单元可以抑制研磨浆中的微生物生长。

技术领域

本发明涉及一种研磨浆供应系统及一种无尘室。

背景技术

随着集成电路制造过程中特征尺寸的缩小和金属互联的增加，对晶圆表面平整度的要求也越来越高。化学机械研磨(chemical mechanical polish；CMP)是将机械研磨和化学腐蚀结合的技术，是目前最有效的晶圆平坦化方法，其广泛应用于半导体工业制造生产中。

在CMP制程中，研磨浆(slurry)的品质对CMP的制程良率具有非常重要的影响。研磨浆中微生物(如细菌等)的存在可能会影响研磨浆的品质，污染CMP制程并且影响研磨质量。

发明内容

鉴于此，本发明提供一种能够抑制研磨浆中的微生物生长的研磨浆供应系统。

一种研磨浆供应系统，应用于制造半导体元件的化学机械研磨工艺中提供所需的研磨浆，所述研磨浆供应系统包括供应装置和微波单元；

所述供应装置包括研磨浆输入端、用于输出所述研磨浆至研磨机台的研磨浆输出端、设置在所述研磨浆输入端与所述研磨浆输出端之间的用于供应研磨浆的其他功能部件、以及连接所述研磨浆输入端、所述其他功能部件与所述研磨浆输出端的传输管；

所述微波单元至少向所述供应装置的所述其他功能部件及所述传输管中的研磨浆发射微波。

本发明还提供一种无尘室。

一种无尘室，所述无尘室包括用于设置供应研磨浆的供应装置的无尘空间，所述无尘空间包括底面、侧壁和顶面，所述供应装置放置在所述底面上，其包括接收研磨用研磨浆的研磨浆输入端、用于输出所述研磨浆至研磨机台的研磨浆输出端、设置在所述研磨浆输入端与所述研磨浆输出端之间的用于供应研磨浆的其他功能部件、及连接所述研磨浆输入端、所述其他功能部件及所述研磨浆输出端的传输管，所述无尘室进一步包括微波单元，所述微波单元设置于所述无尘空间的所述底面、侧壁和顶面中的至少一者。

相较于现有技术，本发明的研磨浆供应系统包括微波单元，所述微波单元向供应装置的其他功能部件及传输管中的研磨浆发射微波，可以抑制研磨浆中的微生物生长。

附图说明

图1是本发明一示例性实施例的研磨浆供应系统的平面示意图。

图2是本发明一示例性实施例的微波单元的平面示意图。

图3是本发明一示例性实施例的无尘室的立体示意图。

图4示出了抑制研磨浆中的微生物生长的方法的流程图。

主要元件符号说明

研磨浆供应系统 100

供应装置 11

存储槽 111

第一泵 112

第一过滤器 113