[发明专利]管式沉积设备

说明书

本发明提供了一种管式沉积设备，包括管式沉积腔体、收容于所述管式沉积腔体的载片单元和旋转驱动部。所述管式沉积设备包括所述旋转驱动部，且所述旋转驱动部驱动所述管式沉积腔体或所述载片单元旋转，使得所述载片单元无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能够使两个所述待处理表面中的任意一个或两个处于待镀状态，简化了工艺流程，提高了生产效率并降低了运营成本，避免了由于在所述管式沉积腔体外进行硅片的重复装片而影响良率的问题。

技术领域

本发明涉及晶硅太阳能电池制造技术领域，尤其涉及一种管式沉积设备。

背景技术

晶硅太阳能电池是光伏行业的主导产品，通过优化其生产工艺和结构，目前已经研制出了诸如钝化发射极背场点接触电池(Passivated Emitter and Rear Cell，PERC)、钝化发射极背接触电池(Passivated Emitter Solar Cell，PESC)以及钝化发射极背部局域扩散(Passivated Emitter and Rear Locally-diffused，PERL)电池等高效电池，光电转化效率均能接近20％甚至高于20％，具有良好的应用前景。

随着晶硅太阳能电池在光电转化效率上的突破，从产业化应用的角度讲，提高设备的产能以及产品的良率是至关重要的。现有技术中的PERC减反射膜沉积过程通常是先将待处理的硅片进行装片，送入工艺腔中对其中一面进行减反射层沉积后降温出腔，再对待处理硅片进行翻面和重新装片，然后送入工艺腔中对另外一面进行减反射层沉积。上述工艺流程中，对硅片的翻面和重新装片以及对工艺腔内进行升降温处理使得工艺流程繁琐，不利于提高生产效率。更重要的是，对硅片的重复装片容易影响产品的良率，不利于光电转化效率的提高。

因此，需要开发一种新型的管式沉积设备以避免现有技术中存在的上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种管式沉积设备，以避免现有技术中存在的由于在工艺腔外进行硅片的重复装片，使得工艺流程繁琐而不利于提高生产效率以及容易影响良率的问题。

为实现上述目的，本发明的所述管式沉积设备包括管式沉积腔体以及收容于所述管式沉积腔体的载片单元，所述管式沉积腔体由第一端面、第二端面以及位于所述第一端面和所述第二端面之间的筒形侧面围成，所述管式沉积设备还包括旋转驱动部，所述旋转驱动部驱动所述管式沉积腔体或所述载片单元旋转。

本发明所述管式沉积设备的有益效果在于：所述管式沉积设备包括所述旋转驱动部，且所述旋转驱动部驱动所述管式沉积腔体或所述载片单元旋转，使得所述载片单元无需多次进出所述管式沉积单元内部就能够使两个所述待处理表面中的任意一个或两个处于待镀状态，简化了工艺流程，提高了生产效率并降低了运营成本，避免了由于在所述管式沉积腔体外进行硅片的重复装片而影响良率的问题。

优选的，所述载片单元包括若干基片承载部，所述基片承载部用以承载待处理基片，所述基片承载部具有相对设置的第一腔面与第二腔面。其有益效果在于：有利于通过所述旋转驱动部驱动所述管式沉积腔体或所述载片单元进行的旋转，使所述待处理基片在所述第一腔面或所述第二腔面之间切换位置，使得所述载片单元无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能够使两个所述待处理表面中的任意一个或两个处于待镀状态。

进一步优选的，所述待处理基片为硅片，所述管式沉积腔体为PECVD沉积腔体。其有益效果在于：使所述管式沉积设备适用于PECVD的应用。

进一步优选的，还包括控制单元，所述控制单元包括位置控制，所述旋转驱动部根据所述位置控制的指令控制所述载片单元处于第一腔面承载待处理基片的第一位置或控制所述载片单元处于第二腔面承载待处理基片的第二位置。其有益效果在于：有利于使得所述载片单元无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能够使两个所述待处理表面中的任意一个或两个处于待镀状态。