[发明专利]一种可视UV减粘程度的工艺过程膜生产方法及其产品

说明书

本发明公开了一种可视UV减粘程度的工艺过程膜生产方法及其产品，工艺过程膜中，基材为厚度10‑100μm的无色或白色的PET、PO、PVC或CPP光学薄膜，所述基材的一面经过电晕处理；压敏胶层为UV降粘胶层，其中含有占压敏胶层质量的0.1‑1%且吸收波长为200nm‑400nm光敏颜料作为改性光敏剂，UV前剥离力为500—4000g/25mm，UV后的剥离力为0—100g/25mm，所述压敏胶层涂覆于基材电晕面上并与离型膜的离型面进行覆合，并进行熟化。本发明可通过UV光照后过程膜的颜色变化来判断减粘程度，从而大幅度减小该过程造成的能量损失，降低保护膜减粘温度，达到节约成本和保证良率的目的。

技术领域

本发明涉及胶带领域，具体是涉及一种可视UV减粘程度的工艺过程膜生产方法及其产品。

背景技术

晶园、滤光片及OLED等电子行业类产品在切割工艺及模组转移等过程中，需要对支撑膜进行UV减粘操作。目前市面上用于此用途的产品都是普通UV减粘胶带，在减粘过程中，由于光源及使用环境等因素多变，难以确定实际减粘过程需要的UV照射能量，针对该问题，大部分厂家会采取过量UV照射的方法来避免因减粘不彻底带来的各种质量问题，但此方法对能量会有很大的浪费，且影响生产效率，间接增大产品成本，对工业化生产产生较大掣肘，同时过量UV照射会导致保护膜的温度过高，从而对胶层产生不良影响，容易产生残胶等情况。

现有的过程膜技术，如：

实用新型专利号：ZL201420369939.0涉及保护膜领域，尤其涉及一种UV减粘保护膜。该UV减粘保护膜包括PET基材层、设于PET基材层上方的UV减粘粘胶剂层以及设于UV减粘粘胶剂层上方的PET离型膜层。该UV减粘保护膜具有UV光照射前超高粘性，UV光照射后超低粘性的优良性能，降低产品的成本，并且具有较高的制程良率，在半导体晶圆切割、打磨表面保护、触控屏OGS二次强化耐酸膜等产品方面得到广泛应用。

申请号：201810105862.9涉及保护膜技术领域，尤其是涉及一种UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法。所述UV减粘组合物主要由按重量百分比计的如下原料制成：丙烯酸酯压敏胶树脂20％-50％、多官能度低聚物和/或多官能度单体1％-30％、交联剂0.3％-2％、热引发剂0.1％-5％、光引发剂0.5％-5％和溶剂25％-60％。所述UV减粘膜包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层，其中，所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物涂布于基材层表面，烘干熟化得到的。所述UV减粘组合物，具有优异的粘合力，UV照射前具有高粘合力，剥离力高，UV照射后具有低粘合力，UV剥离力低，并且长时间储存后不留残胶。

申请号：201710242271.1提供了一种耐热型UV减粘膜，依次包括基材层、UV光敏胶黏剂层和离型膜层。还提供了一种所述UV光敏胶黏剂层的制备方法，按重量百分比计包括组分：30-50％溶剂型耐高温聚丙烯酸酯压敏胶粘剂、1-25％低分子混合添加剂、0.1-3％双官能团或多官能团特殊添加剂、0.1-1.5％光引发剂、0.5-2％硬化剂、35-60％溶剂。还提供了一种所述耐热型UV减粘膜的制备方法。本发明不仅提高了UV光敏胶黏剂对电晕PET基材的密着性和耐高温性能，且减少了底涂层处理技术，优化了产品结构。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种可视UV减粘程度的工艺过程膜生产方法，以解决UV减粘过程UV光照能量难以确定等问题。

本发明的再一目的在于：提供一种所述生产方法获得的产品。

为达到上述目的，本发明一种可视UV减粘程度的工艺过程膜生产方法，工艺过程膜包括：基材、压敏胶层和离型膜，其中，

所述基材为厚度10-100μm的无色或白色的PET、PO、PVC或CPP光学薄膜，根据客户的产品特点、工艺及光学要求来确定合适的材料及厚度，所述基材的一面经过电晕处理，在室温或40-60℃高温下放置不少于3天，至电晕面表面张力≥48dyn，以便电晕产生的臭氧分解，防止对后段生产产生影响；