[发明专利]一种高稳定性琉璃瓦的制备方法在审
申请号: | 201910902523.8 | 申请日: | 2019-09-24 |
公开(公告)号: | CN110655384A | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 余涛 | 申请(专利权)人: | 霍邱县明楼琉璃瓦有限公司 |
主分类号: | C04B33/132 | 分类号: | C04B33/132;C04B33/13;C04B33/36;C03C8/06;C04B41/89 |
代理公司: | 34129 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 付涛 |
地址: | 237400 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 琉璃瓦 制备 称取 电晕处理 复合微粉 高稳定性 力学性能 坯体制备 微波处理 釉浆制备 整体工艺 耐腐性 耐污染 拒水 耐磨 素坯 搭配 | ||
1.一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、按对应重量份称取物料A备用:100~120份黑土、10~13份高岭土、8~10份煤矸石、12~15份紫砂土、7~10份酚醛树脂、3~5份羧甲基纤维素钠、3~5份玻璃纤维、1~2份硬脂酸锌、1~2份硝酸镧;
S2、按对应重量份称取物料B备用:15~20份氧化铝、45~50份氧化硅、5~8份氧化锆、3~6份氧化钛、2~5份硅烷偶联剂、1~3份明胶、4~7份玄武岩纤维;
S3、按对应重量份称取物料C备用:10~12份钾长石粉、8~10份高岭土、50~55份钒锆蓝色料、3~6份二氧化钛、1~4份十水合四硼酸钠、2~5份碳酸钡、4~7份聚四氟乙烯;
S4、将步骤S3所称取的物料C共同投入到高温熔块炉中进行熔制处理,2~3h后取出投入到球磨机内进行球磨处理,1~2h后取出得釉浆备用;
S5、将步骤S2所称取的物料B共同混合投入到搅拌罐内搅拌均匀,然后再将其投入到烧结炉内进行烧制处理,完成后引出经过水淬、筛分后得复合微粉备用;
S6、将步骤S1所称取的物料A共同投入到球磨机内进行湿法球磨至200目筛,然后将过筛后的浆料脱水成泥饼,陈放处理3~5天后静压成型得坯体备用;
S7、将步骤S6制得的坯体放入到微波辐照箱内进行微波处理,30~35min后取出备用;
S8、将步骤S5制得的复合微粉均匀喷覆在步骤S7处理后的坯体上,然后进行塑压成型,最后再送入到高温窑内素烧成素坯体备用;
S9、将步骤S8制得的素坯体放入到电晕放电仪中进行电晕处理,2~3min后取出备用;
S10、将步骤S4制得的釉浆涂覆于步骤S9处理后的素坯体表面上,然后再将其放入到高温窑内高温烧制,完成后取出再经冷却、修磨、质检后即得成品琉璃瓦。
2.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S2中所述的硅烷偶联剂为硅烷偶联剂kh550、硅烷偶联剂kh560、硅烷偶联剂kh570中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S4中所述的熔制处理时保持高温熔块炉中的温度为1300~1380℃;所述的球磨处理控制球磨机内物料C、球、水对应的质量比为1:1.5:0.8;所述的釉浆细度控制在300目筛余的质量比为0.1~0.3%。
4.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S5中所述的烧制处理时控制烧结炉内的温度为1400~1450℃;所述的水淬处理是将烧结所得的玻璃熔体引入到水中进行水淬处理,所述的筛分是将水淬所得的碎渣进行颗粒筛分,筛分出颗粒粒径不大于5mm的渣粒即为复合微粉。
5.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S6中所述的湿法球磨后粒料细度控制在200目筛余的质量比为0.2~0.4%。
6.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S7中所述的微波处理时控制微波辐照箱内的辐照功率为800~900W。
7.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S8中所述的素烧时控制高温窑内的温度为850~900℃,时长控制为1~1.5h。
8.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S9中所述的电晕处理时控制电晕放电仪中的电压为10~14kV。
9.根据权利要求1所述的一种高稳定性琉璃瓦的制备方法,其特征在于,步骤S10中所述的高温烧制时控制高温窑内的温度为1200~1260℃。
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