[发明专利]具量子点的画素基板及其制作方法

说明书

本发明公开了一种具量子点的画素基板及其制作方法，其中该具量子点的画素基板包含：一透明基板；一黑矩阵层，形成于该透明基板的表面，并定义数个像素空间；数个量子点胶层，个别形成于该数个像素空间中；及其中，该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成，且构成倒梯形或漏斗形结构，而使该些像素空间构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。据此可简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构。

技术领域

本发明是关于一种量子点技术，特别是关于一种具量子点的画素基板及其制作方法。

背景技术

量子点(Quantum Dots)作为平面显示器技术的应用材料已经成为下一代显示技术的热点。量子点有以下的特色，其转换光谱可随尺寸调整(通过调整量子点的纳米晶体大小，尺寸在1～20 nm之间)、发光效率高、发光稳定性好等光学性能。并且，量子点大多为无机化合物，其性能稳定，具有耐久性佳的特色。使得量子点技术成为下一代显示技术的关注重点。

目前，已经有厂商发展出量子点发光二极管(Quantum Dots Light EmittingDiodes, QD-LEDs)、量子点有机发光二极管(Quantum Dots Organic Light EmittingDiodes, QD-LEDs)等显示技术。目前的发展，主要是利用发光二极管或有机发光二极管的发光来作为量子点的光源，让其转换到想要发光的频谱。无论是哪一种应用手段，由于量子点的制程技术与发光二极管或有机发光二极管的制程大不相同，因此，由量子点所构成的像素基板的制作，目前尚须与两者的制程分开。

因此，如何能够简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构，成为目前量子点显示技术开发厂商所寻求的发展方向。

发明内容

为达上述目的，本发明提供一种具量子点的画素基板及其制作方法，可达到以最简易制程制作具量子点的画素基板，并让量子点灌注容易，生产良率提高，进一步可加速量子点运用于显示技术进程的特殊技术功效。

本发明的目的在于提供一种具量子点的画素基板，包含：一透明基板；一黑矩阵层，形成于该透明基板的表面，并定义数个像素空间；数个量子点胶层，个别形成于该数个像素空间中；及其中，该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成，且构成倒梯形或漏斗形结构，而使该数个像素空间分别构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。

本发明又提供一种具量子点的画素基板的制作方法，包含：于透明基板的表面形成一光阻层；以一光罩对该光阻层进行曝光；移除未被曝光的该光阻层，并将已被曝光的该光阻层制作为梯形结构的一黑矩阵层，以定义数个像素空间，且该黑矩阵结构构成倒梯形或漏斗形结构，而定义该数个像素空间分别为一正梯形或倒漏斗形的碗状结构；固化该黑矩阵结构；及将该数个像素空间个别对应灌注相对应画素材料以分别形成一量子点胶层。

据此可简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构。

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举数个较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下（实施方式）。

附图说明

图1为本发明所揭示的一种具量子点的画素基板的制作方法流程图。

图2A-2E为图4C所示的局部的剖面图的制作流程图。

图3A-3F为图4D所示的局部的剖面图的制作流程图。

图4A说明了本发明的具量子点的像素基板及其所对应的发光基板的示意图。

图4B为本发明的具量子点的像素基板及其所对应的局部的放大示意图。

图4C、4D为本发明的具量子点的像素基板的局部沿A-A剖面线的剖面示意图。

附图中的符号说明：