[发明专利]电磁波屏蔽膜及其制备方法与用途

权利要求书

1.一种电磁波屏蔽膜，包含：

一第一金属层，所述第一金属层具有两个相对的表面；

一绝缘层，所述绝缘层设置在所述第一金属层的其中一个表面上；和

一第二金属层，所述第二金属层设置在所述第一金属层的另一个表面上；

其中，所述第二金属层包括纳米金属粒子及黏着剂；

所述第一金属层中的金属为银、铜、铝、铬或其任意组合；

所述第二金属层中的黏着剂为聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇缩丁醛、聚硅氧烷、二酰肼、乙酰苯肼、苯肼、乙二酰对苯二肼、聚乙烯亚胺、阿拉伯树胶、多聚磷酸钠、十二烷基硫酸钠、十二烷基磺酸钠、十二胺、十六胺或其任意组合；以及，在所述第二金属层中，以所述纳米金属粒子与所述黏着剂的总量为100wt％计，所述纳米金属粒子的总量范围为大于80wt％且小于100wt％。

2.如权利要求1所述的电磁波屏蔽膜，其特征在于，所述第一金属层的厚度范围为10nm至300nm，且所述第二金属层的厚度范围为100nm至1,500nm。

3.如权利要求1所述的电磁波屏蔽膜，其特征在于，所述第二金属层中的纳米金属粒子为铝纳米粒子、铜纳米粒子、镍纳米粒子、银纳米粒子、铁纳米粒子、钛纳米粒子、钴纳米粒子或其任意组合。

4.如权利要求1所述的电磁波屏蔽膜，其特征在于，在所述第二金属层中，以所述纳米金属粒子与所述黏着剂的总量为100wt％计，所述纳米金属粒子的总量范围为大于87wt％且小于95wt％。

5.如权利要求1所述的电磁波屏蔽膜，其特征在于，在所述第二金属层中，所述纳米金属粒子的尺寸范围为3nm至200nm。

6.一种电磁波屏蔽膜的制备方法，包含：

在一绝缘层上形成一第一金属层；

将包含纳米金属粒子及黏着剂的金属组合物施予在所述第一金属层上；和

对所述金属组合物进行一处理程序，所述处理程序选自热处理、光处理或两者的组合，从而获得形成在所述第一金属层上的第二金属层；

所述第一金属层中的金属为银、铜、铝、铬或其任意组合；

所述第二金属层中的黏着剂为聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇缩丁醛、聚硅氧烷、二酰肼、乙酰苯肼、苯肼、乙二酰对苯二肼、聚乙烯亚胺、阿拉伯树胶、多聚磷酸钠、十二烷基硫酸钠、十二烷基磺酸钠、十二胺、十六胺或其任意组合；以及，在所述第二金属层中，以所述纳米金属粒子与所述黏着剂的总量为100wt％计，所述纳米金属粒子的总量范围为大于80wt％且小于100wt％。

7.如权利要求6所述的电磁波屏蔽膜的制备方法，其特征在于，利用涂布、印刷或喷涂将所述金属组合物施予在所述第一金属层上。

8.一种印刷电路装置，包含印刷电路板及设置在所述印刷电路板上的如权利要求1至5中任一项所述的电磁波屏蔽膜。