[发明专利]一种铟柱回熔缩球系统及方法在审

专利信息
申请号: 201910909922.7 申请日: 2019-09-25
公开(公告)号: CN110660677A 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 李海燕;黄婷 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/687
代理公司: 11010 工业和信息化部电子专利中心 代理人: 吴淑艳
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 夹具 回熔 处理器件 铟柱 工艺系统 加热台 清洗槽 风干 起球 洗液 芯片 处理器件表面 产品成品率 氮气喷枪 工艺过程 控制电路 清洗工艺 芯片损伤 机械臂 夹取 气泵 吸附 暂存 晃动 加热 承载
【权利要求书】:

1.一种铟柱回熔缩球系统,其特征在于,包括清洗工艺系统、风干工艺系统和回熔工艺系统,其中,所述清洗工艺系统,包括机械臂及其控制电路、第一夹具、第二夹具、第一清洗槽和第二清洗槽,所述第二夹具固定于所述机械臂上,所述第一清洗槽中和所述第二清洗槽中储存有不同的洗液;所述风干工艺系统包括气泵和氮气喷枪,所述气泵通过气泵接口与所述第一夹具连接;所述回熔工艺系统包括恒温回熔加热台和恒温过渡加热台,其中:

所述第一夹具,用于承载待处理器件;

所述第二夹具,用于固定所述第一夹具;

所述机械臂,用于在所述控制电路的控制下,带动所述第一夹具在所述第一清洗槽的洗液或者第二清洗槽的洗液中上下晃动;

所述气泵,用于在开启后,将所述待处理器件吸附于所述第一夹具上;

所述氮气喷枪,用于风干待处理器件表面;

所述恒温回熔加热台,用于加热回熔试剂对待处理器件进行铟柱起球;

所述恒温过渡加热台,用于暂存起球后的待处理器件。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述第一夹具为圆形,所述第一夹具正表面上设置有若干个凹槽,所述凹槽用于放置所述待处理器件。

3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述凹槽为六边形。

4.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述凹槽的深度不超过所述待处理器件的厚度。

5.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述凹槽中心设置有第一圆孔,所述第一圆孔尺寸不大于所述待处理器件的尺寸。

6.根据权利要求5要求所述的系统,其特征在于,所述第一夹具为中空结构,空腔与每个凹槽内的第一圆孔相同,所述第一夹具背面开有第二圆孔,所述第二圆孔与所述空腔相通,所述第一夹具通过所述第二圆孔与所述气泵接口相连。

7.根据权利要求1~6任一权利要求所述的系统,其特征在于,所述第一夹具采用碳化硅材料制成。

8.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述第一清洗槽和所述第二清洗槽具有溢流功能。

9.一种铟柱回熔缩球方法,其特征在于,所述方法应用于权利要求1~7任一项所述的系统中,所述方法包括:

将所述待处理器件固定于所述第一夹具上;

将第一夹具固定于所述第二夹具上,将第二夹具固定于所述机械臂上;

在所述控制电路的控制下,所述机械臂带动所述第一夹具在所述第一清洗槽内上下晃动第一预设时长,所述第一清洗槽内储存有丙酮洗液;

在所述控制电路的控制下,所述机械臂带动所述第一夹具在所述第二清洗槽内上下晃动第一预设时长,所述第二清洗槽内储存有酒精洗液;

将所述第一夹具与所述气泵接口连接并开启气泵,将所述待处理器件吸附于所述第一夹具上;

开启氮气喷枪吹干所述待处理器件表面;

将所述恒温回熔加热台中的回熔液加热到预设温度且稳定后,将第一夹具放置于所述回熔液中,等待第二预设时长;

将所述第一夹具转移到恒温过渡加热台中的酒精试剂中静置第三预设时长。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,还包括:

从所述酒精试剂中取出所述第一夹具,并将所述第一夹具与所述气泵接口连接,开启气泵将所述待处理器件吸附于所述第一夹具上;

利用酒精喷枪利用酒精反复喷洗所述待处理器件表面;

打开氮气喷枪,吹干所述待处理器件表面。

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