[发明专利]气体供给单元

说明书

本发明涉及一种气体供给单元，包括：背板，设置于腔室内部；簇射头，与所述背板的下部隔开设置并朝向所述腔室内部供给工艺气体或清洗气体；挡板单元，设置于所述背板与所述簇射头之间，通过中央部区域供给工艺气体并通过周边区域供给所述工艺气体或所述清洗气体；以及工艺气体供给源与清洗气体供给源，所述工艺气体供给源朝向所述挡板单元供给所述工艺气体，所述清洗气体供给源朝向所述挡板单元供给所述清洗气体。在执行针对大面积基板的各种处理工艺的基板处理装置中，在根据沉积工艺或清洗工艺而向基板处理装置的内部供给各种气体的情况下，气体供给单元可使气体均匀地在基板处理装置的内部分散。

技术领域

本发明涉及一种气体供给单元，更详细而言，涉及一种在执行针对大面积基板的各种处理工艺的基板处理装置中，在根据沉积工艺或清洗工艺而向基板处理装置的内部供给各种气体的情况下，可使气体均匀地在基板处理装置的内部分散的气体供给单元。

背景技术

通常，基板处理装置包括配置于腔室内侧支撑基板并沿上下移动的基座、及朝向所述基板供给工艺气体等的气体供给部。

在这种情况下，根据在所述腔室中执行的处理工艺，通过气体供给部供给的气体的种类会不同。例如，在执行针对基板的沉积工艺的情况下，可通过气体供给部供给工艺气体，且可在执行腔室内部的清洗工艺的情况下供给清洗气体。

此时，工艺气体需要均匀地分散并供给到基板的上表面，在清洗气体的情况下，为了对腔室内部进行清洗，需要供给到腔室的内侧的边缘为止。

然而，最近液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)、等离子显示面板(PlasmaDisplay Panel，PDP)及有机发光二极管(Organic Light Emitting Diodes)等平面显示器逐渐大型化、大面积化，因此对基板供给气体的气体供给部与腔室也同样地大面积化或大型化。

在观察这种倾向时，难以使各种气体在大型化的腔室的内侧均匀地分散。

通常，在考虑到清洗气体的自由基(radical)反应机制、生命周期(lift-cycle)等时，因所述清洗气体的慢的反应速度及时间延迟，在当从腔室的中央供给所述清洗气体到大面积、大型化的基板处理装置的腔室的最外围边缘为止进行清洗的情况下存在困难。

发明内容

[发明所要解决的问题]

本发明为了解决如上所述的问题点，目的在于提供一种在向执行针对大面积基板的工艺的大型腔室的内侧供给各种气体的情况下，可使气体均匀地分散的气体供给单元。

另外，本发明的目的在于提供一种可根据腔室的处理工艺或根据供给的气体的种类而使气体在挡板单元中分散的区域不同的气体供给单元。

进而，本发明的目的在于提供一种可在进行沉积工艺的情况下通过挡板单元的中央部区域或周边区域供给沉积气体，在进行清洗工艺的情况下通过挡板单元的周边区域供给清洗气体的气体供给单元。

[解决问题的技术手段]

如上所述的本发明的目的通过气体供给单元来达成，所述气体供给单元包括：背板，设置于腔室内部；簇射头，与所述背板的下部隔开设置并朝向所述腔室内部供给工艺气体或清洗气体；挡板单元，设置于所述背板与所述簇射头之间，通过中央部区域供给工艺气体并通过周边区域供给所述工艺气体或所述清洗气体；以及工艺气体供给源与清洗气体供给源，所述工艺气体供给源朝向所述挡板单元供给所述工艺气体，所述清洗气体供给源朝向所述挡板单元供给所述清洗气体。

在这里，在所述挡板单元中可形成：中央喷射孔，朝向所述簇射头供给工艺气体；及至少一个周边喷射孔，朝向所述簇射头供给工艺气体或清洗气体，并与所述中央喷射孔隔开。