[发明专利]真空吸附装置

说明书

本发明涉及一种真空吸附装置，包括：真空吸附盘，真空吸附盘的中心设置有第一吸气口；气液分离结构，包括具有容纳腔体的本体，本体的上半部分的侧壁上设有与容纳腔体连通的入口和出口，入口通过第一管道与第一吸气口连通；真空产生结构，通过第二管道与出口连通；真空吸附装置还包括：液位监测结构，用于实时监测容纳腔体内的液位，并在容纳腔体内的液位超过预设值时发出信号；排液结构，包括储液箱、排液管道以及第一压缩空气提供部，储液箱通过排液管道与本体的底部的排液口连通，第一压缩空气提供部通过第三管道与排液管道连通；控制结构，用于根据液位监测结构发出的信号、控制第一压缩空气提供部提供压缩空气以快速排空排液管道内的液体。

技术领域

本发明涉及真空吸附技术领域，尤其涉及一种真空吸附装置。

背景技术

在硅晶圆边缘抛光中，硅晶圆吸附采用的真空发生装置为水环真空泵，由于水环真空泵需要有tap water(自来水)的供应，并且因为结构的问题，自来水会吸混入随气体被吸入的液体，该液体是不符合水环真空泵的水封用水要求的，可能是具有污染的，导致需要直接排掉水环真空泵内的水，然后重新供水，水环真空泵水封用水量很大，频繁供水、排水，使用成本上升，且能耗高，并且水环真空泵的占地面积较大。

为了解决上述技术问题、有的采用气液分离结构将气体中的液体进行分离，但是，在需要持续提供真空吸附的情况下，持续吸入混有液体的气体的时间长，或者有大量液体吸入，气液分离结构分离出来的液体可能会溢出，导致液体最终进入真空发生器。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种真空吸附装置，解决真空吸附时间长、和/或混入气体中的液体量太大，气液分离结构无法进行分离的问题。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种真空吸附装置，包括：

真空吸附盘，所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口；

气液分离结构，包括具有容纳腔体的本体，所述本体的上半部分的侧壁上设有与所述容纳腔体连通的入口和出口，所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通；

真空产生结构，通过第二管道与所述出口连通；

所述真空吸附装置还包括：

液位监测结构，用于实时监测所述容纳腔体内的液位，并在所述容纳腔体内的液位超过预设值时发出信号；

排液结构，包括储液箱、排液管道以及第一压缩空气提供部，所述储液箱通过所述排液管道与所述本体的底部的排液口连通，所述第一压缩空气提供部通过第三管道与所述排液管道连通；

控制结构，用于根据所述液位监测结构发出的信号、控制所述第一压缩空气提供部提供压缩空气以快速排空所述排液管道内的液体。

可选的，所述第三管道将所述排液管道划分为第一部分和第二部分，所述第一部分的一端与所述排液口连通；

所述排液结构还包括开关组件，所述开关组件包括设置于所述第一部分上的第一阀门，设置于所述第二部分上的第二阀门，以及设置于所述第三管道上的第三阀门；

所述控制结构用于控制所述第一阀门、所述第二阀门和所述第三阀门在第一工作状态和第二工作状态之间转换，其中，

在所述第一工作状态下，所述控制结构控制所述第一阀门打开、所述第二阀门和所述第三阀门关闭、使得所述容纳腔体内的液体进入所述排液管道；在第二工作状态下，所述控制结构控制所述第一阀门关闭、所述第二阀门和所述第三阀门打开、使得真空吸附状态下、快速排出所述排液管道内的液体。

可选的，所述第二管道上设置有第四阀门。

可选的，所述液位监测结构包括液位传感器。

可选的，所述真空产生结构包括水环真空泵。