[发明专利]玻璃抛光液及其制备方法和使用其进行抛光处理的方法

权利要求书

1.一种玻璃抛光液进行抛光处理的方法，其特征在于，将具有预定密度的第一浓缩液加入抛光设备中并进行所述抛光处理，当所述抛光设备中所述第一浓缩液的实时密度小于所述预定密度时，向所述抛光设备中加入第二浓缩液；

其中，所述第一浓缩液包括：

40重量份~60重量份的含有氧化铈的抛光粉；

1重量份~5重量份的第一分散剂；

0.001重量份~0.005重量份的表面活性剂；以及

34.995重量份~58.999重量份的水，

所述第二浓缩液包括：

40重量份~60重量份的氧化铈抛光粉；

0.2重量份~0.5重量份的第二分散剂；

0.2重量份~0.5重量份的第三分散剂；以及

39重量份~59.6重量份的水，

其中，所述第一分散剂的密度不小于1.5 g/cm³，所述第二分散剂和所述第三分散剂的密度小于1.5 g/cm³。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一分散剂包括六偏磷酸钠和三聚磷酸钠中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二分散剂包括聚丙烯酸和聚丙烯酸钠中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第三分散剂包括PEG-4000、PEG-2000以及PEG-1000中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面活性剂包括十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠以及十二烷基硫酸钠中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含有氧化铈的抛光粉中氧化铈的质量百分含量为70%~95%。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述含有氧化铈的抛光粉中氧化铈的质量百分含量为70%~85%。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述氧化铈的质量百分含量为70%~85%的所述抛光粉中，还含有稀土氧化物和稀土氟氧化物中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含有氧化铈的抛光粉中氧化铈的质量百分含量不小于95%。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述氧化铈的质量百分含量不小于95%的所述抛光粉中，还含有稀土氧化物。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二浓缩液还包括氟化物、无机电解质以及抗菌剂中的至少一种。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

每经过第一预定时间后，测量所述抛光设备中所述第一浓缩液的实时密度，若所述实时密度小于所述预定密度，则向所述抛光设备中加入第二浓缩液，所述第一预定时间为5 h~8 h。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，每经过第二预定时间后，向所述抛光设备中加入所述第一浓缩液。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第二预定时间为7天~15天。

15.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在经过第三预定时间后，清理所述抛光设备中的所述玻璃抛光液。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述第三预定时间为30天~60天。