[发明专利]一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺

权利要求书

1.一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，

坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份；

釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份；

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃；

所述低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份；

所述步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；

高温强还原阶段：窑炉内升温至1145±15℃，烧窑时间3.8-4.2小时；

高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145±15℃，烧窑时间1.8-2.2小时；

自然冷却阶段：窑炉内冷却至30-60℃，冷却时间延长至8小时以上；

所述步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18-20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:0.8-1；

所述步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24-30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8-2:1-1.2；

所述步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型或碾压成型或注浆成型；所述步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉；所述釉料的厚度为0.3-0.5mm。