[发明专利]一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺

说明书

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，釉料包括以下原料：石英岩、夕线石、海泡石、白云石、硼砂、石粉、低温熔块、氧化锆、氧化锌、氧化钇，釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小，通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，石粉可以提高釉料的细腻度，增加釉面的美观，同时釉料中还包括有低温熔块，低温熔块通过煅烧制成，可有效降低釉料的烧成温度，低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小，可进一步降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，保证釉料烧制时，不会龟裂，保证工艺瓷的釉面的美观。

技术领域

本发明属于工艺瓷制备领域，具体涉及一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺。

背景技术

陶瓷行业是能耗大户，在能源消耗中占了很大的比例，降低陶瓷生产能耗是陶瓷行业一项长期而重要的任务，在所有的能耗方式中，降低坯体的烧成温度，实现低温快烧是解决能耗过大的根本性办法，其优越性已在陶瓷界形成共识。

釉上彩是陶瓷的主要装饰技法之一，它是用各种彩料在已经烧成的瓷器釉面上绘制各种纹饰，然后二次入窑，通常包括彩绘瓷、彩饰瓷、青花加彩瓷、五彩瓷、粉彩瓷、色地描金瓷及珐琅彩等。釉上彩用釉料不仅要求附着力强，能有效附着于瓷器釉面上，而且要求具有优异的耐腐蚀性、耐磨性和耐候性，图案呈现效果好，目前釉上彩在二次烧制过程中，容易开裂，严重影响外观质量，有待进一步改进。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的缺点，提供一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺。

本发明采用如下技术方案：

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，所述釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，

坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份；

釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份；

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃。

进一步的，所述低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份。

进一步的，所述步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；