[发明专利]基板处理装置和检查方法在审

专利信息
申请号: 201910936746.6 申请日: 2019-09-29
公开(公告)号: CN111009478A 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 滨田佳志;桾本裕一朗;羽山隆史 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687;G03F7/30
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 检查 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,对被处理基板进行处理,所述基板处理装置具有:

旋转保持部,其保持被处理基板并使该被处理基板旋转;

摄像部,该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面;

光源,其向所述摄像部的所述摄像区域照射光;

检查部,其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查;以及

选择部,其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,还具有:

事前获取部,在所述检查之前,该事前获取部获取被所述旋转保持部保持的被处理基板的朝向互不相同的多个状态的摄像结果;以及

判定部,其基于所述多个状态的摄像结果来判定在所述检查用的摄像时不适当的被处理基板的朝向,

其中,所述选择部基于所述判定部的判定结果来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述选择部基于由所述判定部得到的所述不适当的被处理基板的朝向的判定结果、所述检查用的摄像时的被处理基板的转速以及所述检查用的摄像时的所述摄像部的帧频,来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述检查部基于所述摄像结果的检查对象区域的信息来进行检查。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

所述检查对象区域为多个,

所述选择部针对每个所述检查对象区域选择要在所述检查中使用的摄像结果。

6.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

在所述检查期间,所述检查对象区域移动,

所述选择部针对所述检查中的各时间点的每个所述检查对象区域,判定是否在所述检查中使用设定有该检查对象区域的摄像结果,基于该判定的结果来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

7.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述检查部进行多种所述检查,

针对每种所述检查设置所述光源,

针对每个摄像帧设定所述检查的种类和所述光源的种类。

8.一种检查方法,用于检查对被处理基板进行处理的基板处理装置,

所述基板处理装置具有:

旋转保持部,其保持被处理基板并使该被处理基板旋转;

摄像部,该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面;以及

光源,其向所述摄像部的所述摄像区域照射光,

所述检查方法包括以下工序:

选择要在所述检查中使用的摄像结果,该选择是基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来进行的;以及

基于所述摄像部的摄像结果来进行检查。

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