[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

具有：

保持构件，从下方将基板保持为大致水平，并具有与所述基板的下表面隔开间隙相向的上表面，该保持构件能够以规定的旋转轴为中心进行旋转，

相向构件，具有与由所述保持构件保持的所述基板的上表面隔开间隙相向的主体部和从所述主体部的周缘部以包围所述基板的端面的方式向所述保持构件侧延伸的筒状的延伸设置部，所述相向构件能够以所述旋转轴为中心进行旋转，

旋转机构，使所述保持构件和所述相向构件以所述旋转轴为中心向相互相同的方向旋转，

喷嘴，向由所述保持构件保持并旋转的所述基板的上表面以及下表面中的某一个处理面喷出处理液；

所述相向构件包括在包围所述基板的上表面以及端面的内侧面中的一部分形成的环状的凹部，该一部分设置在所述延伸设置部的顶端侧部分与所述内侧面中的与所述基板相向的相向面之间的部分，所述环状的凹部与所述相向面的周缘部相比向上方凹陷。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述旋转机构使所述保持构件和所述相向构件以所述旋转轴为中心向相同的方向并以相同的速度旋转。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述相向构件在所述内侧面中的比所述环状的凹部靠径向外侧的部分具有相对于所述保持构件的上表面向斜上方外侧膨出弯曲的弯曲面。

4.一种基板处理方法，其特征在于，包括：

旋转步骤，使能够以规定的旋转轴为中心进行旋转的保持构件与基板一起以所述旋转轴为中心进行旋转，所述保持构件从下方将所述基板保持为大致水平，并具有与所述基板的下表面隔开间隙相向的上表面；

处理液喷出步骤，从由所述保持构件保持并旋转的所述基板的下表面的中央部的下方向该中央部喷出处理液；

清洗液喷出步骤，从由所述保持构件保持并旋转的所述基板的中央部和所述保持构件的中央部之间沿着所述保持构件的上表面向所述保持构件的径向外侧喷出清洗液。

5.如权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，

所述处理液喷出步骤和所述清洗液喷出步骤并行进行。

6.如权利要求4或5所述的基板处理方法，其特征在于，

处理液喷出步骤是从在喷嘴的板状构件的上表面设置的处理液喷出口向所述下表面的中央部喷出处理液的步骤，所述喷嘴具有与所述基板的下表面的中央部和所述保持构件的上表面都隔开间隙相向的所述板状构件，

所述清洗液喷出步骤是从在所述喷嘴的所述板状构件的上表面或下表面设置的清洗液喷出口，沿着所述板状构件的上表面或下表面和所述保持构件的上表面双方的面，向所述保持构件的径向外侧喷出清洗液的步骤。

7.如权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，

处理液喷出步骤是从在喷嘴的板状构件的上表面设置的处理液喷出口向所述基板的下表面的中央部喷出处理液的步骤，所述喷嘴具有与所述基板的下表面的中央部和所述保持构件的上表面都隔开间隙相向的所述板状构件，

所述清洗液喷出步骤是从在所述喷嘴的所述板状构件的侧面设置的清洗液喷出口沿着所述保持构件的上表面向所述保持构件的径向外侧喷出清洗液的步骤。

8.一种基板处理装置，其特征在于，

具有：

保持构件，从下方将基板保持为大致水平，并具有与所述基板的下表面隔开间隙相向的上表面，该保持构件能够以规定的旋转轴为中心进行旋转；

旋转机构，使所述保持构件以所述旋转轴为中心进行旋转；

喷嘴，分别设置有处理液喷出口和清洗液喷出口，所述处理液喷出口从所述基板的下表面的中央部的下方向该中央部喷出处理液，所述清洗液喷出口从所述基板的中央部和所述保持构件的中央部之间沿着所述保持构件的上表面向所述保持构件的径向外侧喷出清洗液。