[发明专利]偏振光片及偏振光片的制造方法有效
| 申请号： | 201910962137.8 | 申请日： | 2019-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN111103645B | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 涉谷和幸;榊原重司;菅原利明;松野雄介;高田昭夫 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14;G02B1/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 何欣亭;闫小龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振光 制造 方法 | ||
1.一种偏振光片，具备：
透明基板，其相对于使用波段的光透明；
格子状凸部，其以比所述使用波段的光的波长更短的间距排列在所述透明基板上，并沿既定方向延伸，且具有反射层和反射抑制层；
由电介质构成的电介质部，其在所述格子状凸部的表面及所述格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成；以及
憎水部，其形成在所述电介质部的表面，且具有憎水性，
在所述格子状凸部的表面及所述格子状凸部间的底面部的表面，以岛状或点状形成所述电介质部。
2.如权利要求1所述的偏振光片，其中，所述电介质部的厚度为0.8～1.2nm。
3.如权利要求1或2所述的偏振光片，其中，
所述电介质部由SiO2构成，
所述憎水部由具有氟烷基或烷基的硅烷化合物构成。
4.如权利要求1或2所述的偏振光片，其中，
所述电介质部由Al2O3构成，
所述憎水部由具有氟烷基或烷基的磷酸盐化合物构成。
5.一种偏振光片的制造方法，其中，
在光学部件成膜电介质，所述光学部件具备透明基板和格子状凸部，所述透明基板相对于使用波段的光透明，所述格子状凸部以比所述使用波段的光的波长更短的间距排列在所述透明基板上，并沿既定方向延伸，且具有反射层和反射抑制层；
在所述格子状凸部的表面及所述格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成由所述电介质构成的电介质部；
在所述电介质部的表面形成具有憎水性的憎水部，
在所述格子状凸部的表面及所述格子状凸部间的底面部的表面，以岛状或点状形成所述电介质部。
6.如权利要求5所述的制造方法，其中，利用ALD法，在所述光学部件成膜电介质。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪睿合株式会社，未经迪睿合株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910962137.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
