[发明专利]偏振光片及偏振光片的制造方法

说明书

【课题】提供具有优异的光学特性及耐久性的偏振光片及偏振光片的制造方法。【解决方案】偏振光片具备：相对于使用波段的光透明的透明基板（11）；以比使用波段的光的波长更短的间距排列在透明基板上并沿既定方向延伸的依次具有反射层（12）、第1电介质层（13A）、吸收层（13B）、和第2电介质层（13C）的格子状凸部；在格子状凸部的表面及格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成且由电介质构成的电介质部（14）；以及在电介质部（14）的表面形成且具有憎水性的憎水部（15）。

技术领域

本技术涉及线栅（wire grid）型偏振光片及偏振光片的制造方法。

背景技术

线栅型偏振光片具有较高的耐久性，因此，适合例如在光密度较大的液晶投影仪中使用。在这样的偏振光片中，光学特性上重要的条件是低反射。在反射率较高的情况下，因液晶面板的误动作的原因或杂散光而引起画质变差。

近年来，由于液晶投影仪的高亮度化及高清晰化，期望更低反射的偏振光片。线栅型偏振光片，例如，具备反射层和电介质层和吸收层，并使用上层的电介质层及吸收层的吸收效应及3层的干涉效应来抑制与线栅平行的S偏振光反射率（例如，参照专利文献1。）。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2012－103728号公报。

发明内容

【发明要解决的课题】

前述的线栅型偏振光片中，已知将保护膜涂覆在反射层和电介质层和吸收层的格子状凸部的表面及格子状凸部间的底面部的表面的最外周，从而提高耐久性。但是，若为了提高耐久性而加厚保护膜，则光学特性会变差。

本技术鉴于这样的实际情况而提出，提供具有优异的光学特性及耐久性的偏振光片及偏振光片的制造方法。

【用于解决课题的方案】

为了解决前述的课题，本技术所涉及的偏振光片，其特征在于，具备：透明基板，相对于使用波段的光透明；格子状凸部，以比所述使用波段的光的波长更短的间距排列在所述透明基板上，并沿既定方向延伸，且具有反射层和反射抑制层；由电介质构成的电介质部，在所述格子状凸部的表面及所述格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成；以及憎水部，形成在所述电介质部的表面，具有憎水性。

另外，本技术所涉及的偏振光片的制造方法，其特征在于，在光学部件成膜电介质，所述光学部件具备相对于使用波段的光透明的透明基板、和以比所述使用波段的光的波长更短的间距排列在所述透明基板上并沿既定方向延伸且具有反射层和反射抑制层的格子状凸部；在所述格子状凸部的表面及所述格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成由所述电介质构成的电介质部；在所述电介质部的表面形成具有憎水性的憎水部。

【发明效果】

依据本技术，在格子状凸部的表面及格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成电介质部，且在电介质部的表面形成有憎水部，所以能够得到优异的光学特性及耐久性。

附图说明

【图1】图1是示意性地示出作为具体例1示出的偏振光片的构造的截面图。

【图2】图2是示意性地示出作为具体例2示出的偏振光片的构造的截面图。

【图3】图3是示出偏振光片的制造方法的流程图。

【图4】图4是示意性地示出进行模拟的线栅型偏振光片的结构的截面图。

【图5】图5是示出作为电介质部成膜了既定厚度（0、1nm、2nm、5nm、10nm）的SiO₂时的透射轴透射率Tp的模拟结果的图表。