[发明专利]蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法

说明书

本公开涉及蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。蚀刻剂包括大约8wt％至大约12wt％的硝酸、大约3wt％至大约8wt％的烷基磺酸、大约7wt％至大约12wt％的硫酸盐、大约40wt％至大约55wt％的有机酸、大约0.5wt％至大约5wt％的有机酸盐和余量的水。

相关申请的交叉引用

于2018年10月11日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0121118号且名称为“蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法”的韩国专利申请通过引用全部包含于此。

技术领域

本公开涉及蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。

背景技术

发光显示器包括两个电极和设置在其间的发光层。从一个电极注入的电子和从另一个电极注入的空穴在发光层中结合以形成激子，并且激子在发射能量的同时发光。使用该发光，发光显示装置显示预定图像。

发光显示器包括多个像素，所述多个像素包括作为光致发光器件的发光二极管。发光二极管包括阳极、发光层和阴极。这里，阳极包括银(Ag)以具有低电阻和高反射率的特性。

发明内容

本公开提供一种蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示装置的方法，能够批量蚀刻包括银或银合金的金属层和包括透明导电材料的金属层，以容易地控制蚀刻速率，并且最小化或防止由银残留物和银再吸附导致的缺陷。

实施例涉及蚀刻剂，所述蚀刻剂包括大约8wt％至大约12wt％的硝酸、大约3wt％至大约8wt％的烷基磺酸、大约7wt％至大约12wt％的硫酸盐、大约40wt％至大约55wt％的有机酸、大约0.5wt％至大约5wt％的有机酸盐和余量的水。

硫酸盐相对于有机酸盐的重量比可以为大约4至大约6。

烷基磺酸可以包括甲磺酸、乙磺酸和丙磺酸中的至少一种。

烷基磺酸可以为甲磺酸。

有机酸可以包括乙酸、柠檬酸、乙醇酸、丙二酸、乳酸和酒石酸中的至少一种。

有机酸可以包括乙酸和柠檬酸。

有机酸盐可以包括乙酸盐、柠檬酸盐、乙醇酸盐、丙二酸盐、乳酸盐和酒石酸盐中的至少一种。

有机酸盐可以包括柠乙酸盐或柠檬酸盐。

硫酸盐可以包括硫酸氢钾、硫酸氢钠和硫酸镁中的至少一种。

实施例还涉及一种制造显示装置的方法，所述方法包括：在基底上形成晶体管和焊盘；在晶体管上形成平坦化层；在平坦化层和焊盘上形成第一电极材料层；使用蚀刻剂蚀刻第一电极材料层以形成连接到晶体管的第一电极；在第一电极上形成具有与第一电极叠置的开口的像素限定层；在开口中在第一电极上形成发光构件；以及在发光构件上形成第二电极，其中，所述蚀刻剂包括大约8wt％至大约12wt％的硝酸、大约3wt％至大约8wt％的烷基磺酸、大约7wt％至大约12wt％的硫酸盐、大约40wt％至大约55wt％的有机酸、大约0.5wt％至大约5wt％的有机酸盐和余量的水。

第一电极材料层可以包括：下电极材料层，包括透明导电材料；中间电极材料层，位于下电极材料层上，中间电极材料层包括银或银合金材料；以及上电极材料层，位于中间电极材料层上，上电极材料层包括透明导电材料。

在形成第一电极时，蚀刻剂可以批量蚀刻下电极材料层、中间电极材料层和上电极材料层。

硫酸盐相对于有机酸盐的重量比可以为大约4至大约6。

烷基磺酸可以包括甲磺酸、乙磺酸和丙磺酸中的至少一种。

烷基磺酸可以为甲磺酸。