[发明专利]一种耐电晕聚酰亚胺薄膜制备方法、耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制备系统

权利要求书

1.一种耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将ODA加入反应装置中，再加入DMAc，使得固体含量为10%-20%，搅拌混合均匀，转速为500-1500转每分钟，待ODA在DMAc中完全溶解后，称取与ODA等摩尔比的PMDA，分批多次加入到反应装置中，PMDA加料过程0.5-1h，直至胶液粘度增大到搅拌器出现“爬杆”现象为止，降低转速至50-500转每分钟，继续搅拌6-12小时，最终得到具有高分子量的纯PAA胶液；

将ODA加入反应装置中，再加入DMAc，使得固体含量为固体含量10%-20%，搅拌混合均匀，转速为500-1500转每分钟，待ODA在DMAc中完全溶解后，加入气相氧化铝粉体质量分数15-30%，搅拌均匀，称取与ODA等摩尔比的PMDA，分批多次加入到反应装置中，PMDA加料过程0.5-1h，直至胶液粘度增大到搅拌器出现“爬杆”现象为止，降低转速至50-500转每分钟，继续搅拌6-12小时，最终得到杂化胶液；

将纯PAA胶液通过储存设备倒在的滚动钢带上，利用铺膜刀具将胶液按所需厚度均匀铺在钢板上，缓慢匀速进行铺膜；

将铺好纯PAA胶液的钢板送入预热炉，温度维持在120-280^oC摄氏度，停留时间10-30分钟，对纯PAA胶液进行脱水环化处理，之后将纯膜剥离进入下一步辊涂；纯膜厚度为10-15微米；

将杂化胶液通过储存设备辊涂到剥离的薄膜上，通过压力和牵引力来调节每次的滚涂层厚，在第一次滚涂之后，烘箱温度范围120-280^oC，停留时间10分钟-30分钟，涂层厚度为0.5-5微米；第二次滚涂之后，预热炉温度180-300^oC，停留时间10-30分钟，涂层厚度为0.5-5微米；第三次滚涂之后，预热炉200-320^oC，停留时间10-30分钟，涂层厚度为0.5-5微米；第四次滚涂之后，预热炉220-340^oC，停留时间10-30分钟，涂层厚度为0.5-5微米；第五次滚涂之后，预热炉240-350^oC，停留时间10-30分钟，涂层厚度为0.5-5微米；之后进入烘箱350^oC，停留60-120分钟之后进行收卷；

其中，步骤（1）和（2）无先后顺序要求。

2.根据权利要求1所述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中气相氧化铝粉体粒径100-5000nm。

3.根据权利要求1所述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，纯PAA胶液放入储存设备等待铺膜前，对纯PAA胶液预处理，预处理为：利用铜网进行去杂质及除气泡处理；杂化胶液放入储存设备等待铺膜前，对杂化胶液预处理，预处理为：利用铜网进行去杂质及除气泡处理后。

4.一种耐电晕聚酰亚胺薄膜，采用权利要求1所述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法制备，其特征在于，所述聚酰亚胺薄膜包括位于中间层的纯PAA层，纯PAA层的上下表面均设置有五层掺杂有氧化铝粉的PAA杂化层。

5.根据权利要求4所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述纯PAA层厚度为10-15微米，各层所述PAA杂化层厚度为0.5-5微米，所述耐电晕聚酰亚胺薄膜厚度为20-30微米。

6.根据权利要求5所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜，其特征在于，各层所述PAA杂化层厚度相等。

7.根据权利要求4所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述氧化铝粉为气相氧化铝粉体，粒径100-5000nm，质量分数15-30%。