[发明专利]表面分析装置有效

专利信息
申请号: 201910984278.X 申请日: 2019-10-16
公开(公告)号: CN111060718B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 小林宽治;平出雅人 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01Q30/20 分类号: G01Q30/20
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种表面分析装置,对试样表面进行分析,所述表面分析装置具备:

试样台,其载置试样且包括试样载置部和扫描器,所述试样载置部被固定于所述扫描器的上端;

测定部,其包括以与所述试样台相向的方式配置的悬臂以及驱动所述悬臂的悬臂驱动部;以及

驱动机构,其使所述测定部与所述试样台相对地进行位移,

其中,所述驱动机构构成为:在取出所述试样台时,以使所述测定部与所述试样台在所述悬臂与所述试样台相向的第一方向上分离的方式使所述试样台相对于所述测定部相对地进行位移,之后使所述试样台在与所述第一方向交叉的第二方向上滑动,

所述驱动机构包括:试样台保持部,其保持所述试样台;以及移动机构,其使所述试样台在测定位置与试样取出位置之间移动,

所述第一方向是上下方向,

所述移动机构构成为:以使所述试样台在所述测定位置与退避位置之间升降的方式使所述试样台保持部升降,以使所述试样台在所述试样取出位置与所述退避位置之间移动的方式使所述试样台保持部滑动,所述退避位置位于比所述测定位置靠下方的位置,

所述表面分析装置还具备壳体,所述壳体在所述试样台位于所述测定位置的状态下收容所述试样台、所述试样台保持部以及所述移动机构,

通过以使所述试样台从所述退避位置去向所述试样取出位置的方式使所述试样台保持部滑动,所述试样台从所述壳体的内部暴露于外部。

2.根据权利要求1所述的表面分析装置,其特征在于,

所述移动机构包括:支承体,其支承所述试样台保持部;滑动机构,其使所述支承体沿着所述试样台保持部进行滑动的方向的滑动方向进行滑动;以及升降机构,其使所述试样台保持部相对于所述支承体进行升降,

所述支承体被设置成能够在规定的滑动区间中移动,所述规定的滑动区间包括连续的第一区间和第二区间,

与所述支承体在所述第一区间中的滑动连动地,所述试样台保持部通过所述升降机构而相对于所述支承体进行升降,

伴随所述支承体在所述第二区间中的滑动,所述试样台保持部与所述支承体成一体地沿着所述滑动方向滑动。

3.根据权利要求2所述的表面分析装置,其特征在于,

所述升降机构包括:连结构件,其将所述支承体与所述试样台保持部连结;以及升降引导件,其引导所述试样台保持部在升降方向上的移动,

所述连结构件的一端侧被所述支承体以使所述连结构件能够绕第一转动轴进行转动的方式轴支承,所述第一转动轴与所述滑动方向及所述升降方向正交,

所述连结构件的另一端侧被所述试样台保持部以使所述连结构件能够绕第二转动轴进行转动的方式轴支承,所述第二转动轴与所述第一转动轴平行,

所述升降引导件对所述支承体在所述第一区间中移动时所述试样台保持部向后退方向的移动进行限制,所述后退方向是从所述试样取出位置去向所述退避位置的方向,

通过在由所述升降引导件对所述试样台保持部向所述后退方向的移动进行限制的限制状态下使所述支承体在所述第一区间中滑动,所述连结构件绕所述第一转动轴和所述第二转动轴转动,由此所述试样台保持部相对于所述支承体进行升降。

4.根据权利要求3所述的表面分析装置,其特征在于,

所述升降引导件包括能够绕与所述第一转动轴平行的旋转轴进行旋转的辊,

通过所述试样台保持部与所述辊抵接而成为所述限制状态,

通过在所述限制状态下所述辊进行旋转,所述试样台保持部的升降被引导。

5.根据权利要求2~4中的任一项所述的表面分析装置,其特征在于,

所述升降机构具有板部,该板部以不干扰所述试样台的方式配置于所述试样台保持部的上方,

所述支承体配置于所述试样台保持部的下方,

通过所述试样台保持部与所述板部抵接,所述试样台保持部的上升被限制,

通过所述试样台保持部与所述支承体抵接,所述试样台保持部的下降被限制。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社岛津制作所,未经株式会社岛津制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910984278.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top