[发明专利]一种阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910987115.7 申请日: 2019-10-17
公开(公告)号: CN110579903B 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 林允植;崔贤植;侯凯 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1343
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 制作方法 液晶显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置,包括:衬底基板,位于衬底基板像素区域中开口区域的线栅偏振层,以及位于线栅偏振层背离衬底基板的一侧且与线栅偏振层的图形一致的透明图案。在实际制作过程中,可先整面制作线栅偏振层,并利用透明图案实现对线栅偏振层的掩膜,保留仅位于像素区域中开口区域的线栅偏振层,如此则无需设置在对线栅偏振层进行对位过程中的对位间隙,提高了液晶显示面板的开口率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)具有体积小,功耗低,无辐射等特点,近年来得到迅速发展,在当前的平板显示器市场中占据主导地位。TFT-LCD的主体结构为液晶面板,液晶面板包括背光源、对盒的阵列基板和彩膜基板,液晶分子填充在阵列基板和彩膜基板之间。

为减少制作工艺,降低生产成本,相关技术中,在阵列基板上制作线栅偏振器(Wire Grid Polarizer,WGP),且该线栅偏振其可复用为偏振片和像素电极。然而,在制作线栅偏振器的过程中,线栅偏振器的对位标识与阵列基板的整体基准标识之间存在着一定要进行对位(Align)的问题。目前,最新设备所制作线栅偏振器的对位标识与阵列基板的整体基准标识之间存在大概10um左右的对位间隙(Align margin),减小了TFT-LCD的开口率。

发明内容

有鉴于此,本发明实施例提供一种阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置,用以提高TFT-LCD的开口率。

因此,本发明实施例提供的一种阵列基板,包括:衬底基板,位于所述衬底基板像素区域中开口区域的线栅偏振层,以及位于所述线栅偏振层背离所述衬底基板的一侧且与所述线栅偏振层的图形一致的透明图案。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述线栅偏振层包括多条相互电连接的金属线,各所述金属线之间具有狭缝;所述阵列基板还包括:

覆盖所述狭缝的透明结构,所述透明结构与所述透明图案为同层设置的一体结构。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述线栅偏振层包括多条相互电连接的金属线,各所述金属线之间具有狭缝;所述阵列基板还包括:

位于各所述狭缝内的填充物,所述填充物与所述透明图案为一体结构。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述填充物包括:与其所在所述狭缝一侧的所述金属线接触的第一分部,与其所在所述狭缝另一侧的所述金属线接触的第二分部,以及连接所述第一分部和所述第二分部的第三分部;

所述第一分部与所述第二分部之间具有间隙;

所述第三分部与所述衬底基板接触。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述填充物完全填充所述狭缝。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,还包括:位于各所述金属线与所述透明图案之间的二氧化硅层;

所述二氧化硅层在所述衬底基板上的正投影与所述金属线在所述衬底基板上的正投影相互重合。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,还包括:位于所述像素区域中非开口区域内的晶体管,以及位于所述透明图案所在层背离所述线栅偏振层一侧的电极结构;

所述线栅偏振层复用为公共电极,所述电极结构为与所述晶体管的漏极电连接的像素电极;

或者,所述线栅偏振层复用为像素电极,并与所述晶体管的漏极电连接;所述电极结构为公共电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910987115.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top