[发明专利]一种磁体的表面处理方法、磁体、系统及其应用有效

专利信息
申请号: 201910988375.6 申请日: 2019-10-17
公开(公告)号: CN110767440B 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 江文明;余志辉 申请(专利权)人: 上海史笛威磁性材料有限公司
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;C23C16/44
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 201600 上海市松江*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 磁体 表面 处理 方法 系统 及其 应用
【说明书】:

发明提供了一种磁体的表面处理方法、磁体、系统及其应用,S1:对磁体材料进行粗加工,形成一磁体本体,且所述磁体本体的厚度不超过0.4mm;S2:在磁体本体整体外表面包覆派瑞林过程;在S2中,包覆派瑞林层的过程包括步骤:S21:对磁体本体表面进行后续可进行包覆派瑞林层的表面的预处理;S22:将预处理好的磁体本体设置到沉积室,并将所述沉积室密封并抽至真空;S23:沉积室接收输入的派瑞林气体,将磁体本体在所述沉积室中均匀覆膜处理后静置预设时间内使磁体本体外表面完全包覆预设厚度的派瑞林层。本发明通过对钕铁硼磁体本体表面采用派瑞林包覆,从而降低由于钕铁硼磁体本体表面腐蚀氧化而产生减磁率。

技术领域

本发明涉及磁体制备技术领域,具体涉及一种磁体的表面处理方法、磁体、系统及其应用。

背景技术

近年来,永磁体应用十分广泛,常用永磁体有钕铁硼磁体。但是,作为通过粉末冶金工艺烧结成型的产品,因其中的富钕相、钕铁硼主相及边界相很容易形成晶间腐蚀,并且稀土元素钕性质活泼,因而使得整个钕铁硼材料的耐蚀性极差,在潮湿环境下极易氧化生锈腐蚀。当钕铁硼材料发生腐蚀后,其磁性能将会下降,这导致产品的可靠性和稳定性降低。因此,钕铁硼材料的应用前提是解决好钕铁硼材料的防腐问题。另外,钕铁硼材料制成的产品越小,其热减磁越严重,因此需要解决钕铁硼材料的热减磁问题。

而对于一些器件表面的氧化、溶剂腐蚀等问题,一般会对工件的表面进行表面防护处理。传统使用的环氧树脂、聚氯脂、有机硅树脂、聚丙烯酸脂等防护涂料都是液体涂料。由于液体的粘度和表面张力等原因,涂层厚度不均匀,在棱、角等处涂层较薄,当元器件之间,基板之间仅有很小间距时,会因涂层流不到而形成气隙。涂层固化,烘干后会因溶剂或小分子助剂的挥发,产生收缩应力或形成微小针孔。这些传统涂层的介电强度一般也在2000V/25μm以下,因此必须经多次涂敷,用较厚的涂层才能实现较可靠的防护。

目前,常见的钕铁硼磁体的防腐方法主要有电镀、磷化、电泳等。但这些常规电镀方法普遍存在各种各样的问题,例如工艺稳定性不好,适用范围较窄,防腐能力不足,设备投资大,运行成本高等。市场中的电镀工艺中均或多或少的出现两个问题,一是没有减少前处理过程中的磁体损失,而前处理的磁通损失通常占总磁通损失的50%以上;二是化学镀镍磷层需要镀10μm以上,导致不能使总厚度降低,且成本较高,工艺控制难度也远高于电镀镍。因此,目前大多数钕铁硼电镀企业还是使用传统的镍铜镍电镀生产线,开发新覆膜技术或购买新覆膜设备都有很大难度和风险,因此急需找到一种钕铁硼磁体表明抗氧化抗腐蚀的方法,以解决上述问题。

现有技术中公开的一种新型钕铁硼磁体,包括钕铁硼基体,所述钕铁硼基体的外表面由内向外依次设置电绝缘涂层、耐腐蚀层和镀锌层,所述电绝缘涂层为纳米氮化硅涂层,其厚度为5μm~10μm,所述耐腐蚀层为环氧树脂涂层。所述环氧树脂涂层的厚度为30μm~50μm。其技术效果是通过在钕铁硼基体的外表面由内向外依次设置电绝缘涂层、耐腐蚀层和镀锌层,即纳米氮化硅使其对电绝缘,环氧树脂涂层则提高耐腐蚀性,从而获得既能对电绝缘又能耐腐蚀的新型钕铁硼磁体。这一块的可实施不强,因此急需找到一种钕铁硼磁体表明抗氧化抗腐蚀的方法,以解决上述问题。

发明内容

有鉴于此,本发明要解决的问题在于提供一种磁体的表面处理方法,用于提高磁体的抗腐蚀性,并降低磁体的热减磁率。

本发明提供了一种磁体的表面处理方法,包括以下步骤:

S1:对磁体材料进行粗加工,形成一磁体本体,且所述磁体本体的厚度不超过0.4mm;

S2:在磁体本体整体外表面包覆派瑞林过程;

在S2中,包覆派瑞林层的过程包括步骤:

S21:对磁体本体表面进行后续可进行包覆派瑞林表面的预处理;

S22:将预处理好的磁体本体设置到沉积室,并将所述沉积室密封并抽至真空;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海史笛威磁性材料有限公司,未经上海史笛威磁性材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910988375.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top