[发明专利]掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法有效
申请号: | 201910989459.1 | 申请日: | 2019-10-17 |
公开(公告)号: | CN110699637B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 刘明星;甘帅燕;李伟丽;韩冰 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 制作方法 显示 面板 | ||
1.一种掩膜版的制作方法,其特征在于,包括:
提供第一基板,所述第一基板包括相对的第一表面和第二表面;
刻蚀所述第一表面,形成多个第一凹槽;
刻蚀所述第二表面,形成多个第二凹槽;其中,所述第二凹槽和所述第一凹槽一一对应,且所述第二凹槽的开口面积大于所述第一凹槽的开口面积;在所述第二表面,相邻所述第二凹槽之间的间距大于预设距离,其中,所述预设距离大于零;
在所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域涂布保护层;所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域涂布的保护层沿所述第一基板厚度的方向的宽度大于所述第一基板厚度的1/10,且小于所述第一基板厚度的1/3;
刻蚀所述第二凹槽,形成第三凹槽;所述第三凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度,且所述第三凹槽和所述第一凹槽贯穿所述第一基板;
去除所述保护层。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述保护层为光刻胶。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:
在所述第二表面,所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的表面切线与第一方向的夹角小于或等于10°;
其中,所述第一方向为所述第一基板的厚度方向。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的表面切线与第一方向的夹角小于或等于5°。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,刻蚀所述第二表面,形成多个第二凹槽,包括:
在第二表面涂布光刻胶;
图案化所述光刻胶;
采用湿法刻蚀工艺对第二表面进行刻蚀,形成所述第二凹槽。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,刻蚀所述第二凹槽,形成第三凹槽,包括:
采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述第二凹槽,形成所述第三凹槽。
7.一种掩膜版,采用权利要求1-6任一项所述的掩膜版的制作方法制作,其特征在于,包括:
相对的第一表面和第二表面;所述第一表面包括多个第一凹槽,所述第二表面包括多个第三凹槽,所述第三凹槽和所述第一凹槽一一对应,且对应的所述第三凹槽和所述第一凹槽贯穿所述掩膜版;
在所述第二表面,相邻所述第三凹槽之间的间距大于预设距离,其中所述预设距离大于零;
沿第一方向,所述第三凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的宽度大于所述掩膜版厚度1/10,且小于所述掩膜版厚度的1/3;其中,所述第一方向为所述掩膜版的厚度方向。
8.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,在所述第二表面,所述第三凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的表面切线与第一方向的夹角小于或等于10°。
9.根据权利要求8所述的掩膜版,其特征在于,所述第三凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的表面切线与第一方向的夹角小于或等于5°。
10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供第二基板;
在所述第二基板上形成发光层,所述发光层采用权利要求7-9任一项所述的掩膜版蒸镀形成。
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