[发明专利]掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法有效
申请号: | 201910989459.1 | 申请日: | 2019-10-17 |
公开(公告)号: | CN110699637B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 刘明星;甘帅燕;李伟丽;韩冰 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 制作方法 显示 面板 | ||
本发明公开了一种掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法。该掩膜版的制作方法包括:提供第一基板,第一基板包括相对的第一表面和第二表面;刻蚀第一表面,形成多个第一凹槽;刻蚀第二表面,形成多个第二凹槽;其中,第二凹槽和第一凹槽一一对应,且第二凹槽的开口面积大于第一凹槽的开口面积;在第二表面,相邻第二凹槽之间的间距大于预设距离,其中,预设距离大于零;在第二凹槽的侧面靠近第二表面的边缘区域涂布保护层;刻蚀第二凹槽,形成第三凹槽;第三凹槽的深度大于第二凹槽的深度,且第三凹槽和第一凹槽贯穿第一基板;去除保护层。本发明实施例提高了掩膜版的强度及掩膜版的使用寿命。
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法。
背景技术
在掩膜版的制作过程中,随着每英寸像素(Pixel per inch,PPI)的增加,掩膜版上的开口越来越密集,相邻开口之间的间距越来越小。在蚀刻掩膜版形成开口时,蚀刻速度难以控制,使得不同开口之间的掩膜版的残余厚度不同,掩膜版的强度较差。
发明内容
本发明提供一种掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法,以提高掩膜版的强度和使用寿命。
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜版的制作方法,包括:
提供第一基板,所述第一基板包括相对的第一表面和第二表面;
刻蚀所述第一表面,形成多个第一凹槽;
刻蚀所述第二表面,形成多个第二凹槽;其中,所述第二凹槽和所述第一凹槽一一对应,且所述第二凹槽的开口面积大于所述第一凹槽的开口面积;在所述第二表面,相邻所述第二凹槽之间的间距大于预设距离,其中,所述预设距离大于零;
在所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域涂布保护层;
刻蚀所述第二凹槽,形成第三凹槽;所述第三凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度,且所述第三凹槽和所述第一凹槽贯穿所述第一基板;
去除所述保护层。
可选地,所述保护层为光刻胶。
可选地,所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域涂布的保护层沿所述第一基板厚度的方向的宽度大于所述第一基板厚度的1/10,且小于所述第一基板厚度的1/3。
可选地,在所述第二表面,所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的表面切线与第一方向的夹角小于或等于10°;
其中,所述第一方向为所述第一基板的厚度方向。
可选地,所述第二凹槽的侧面靠近所述第二表面的边缘区域的表面切线与第一方向的夹角小于或等于5°。
可选地,刻蚀所述第二表面,形成多个第二凹槽,包括:
在第二表面涂布光刻胶;
图案化所述光刻胶;
采用湿法刻蚀工艺对第二表面进行刻蚀,形成所述第二凹槽。
可选地,刻蚀所述第二凹槽,形成第三凹槽,包括:
采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述第二凹槽,形成所述第三凹槽。
第二方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版,包括:
相对的第一表面和第二表面;所述第一表面包括多个第一凹槽,所述第二表面包括多个第三凹槽,所述第三凹槽和所述第一凹槽一一对应,且对应的所述第三凹槽和所述第一凹槽贯穿所述掩膜版;
在所述第二表面,相邻所述第三凹槽之间的间距大于预设距离,其中所述预设距离大于零。
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