[发明专利]用于消除遮蔽框架的气体限制器组件

权利要求书

1.一种用于在处理腔室中的基板支撑件的气体限制器组件，所述气体限制器组件包括：

陶瓷气体限制器，所述陶瓷气体限制器围绕基板的外围定位；

基底，所述基底具有：

下表面，所述下表面适于被支撑在所述基板支撑件上；

内部上表面和内部侧表面；以及

外部上表面，所述外部上表面适于支撑所述陶瓷气体限制器；以及

覆盖件，所述覆盖件具有：

外部下表面，所述外部下表面适于由所述基底的所述内部上表面和所述内部侧表面支撑；以及

内部下表面，所述内部下表面适于由所述基板支撑件支撑，

其中所述气体限制器组件围绕所述基板支撑件的外围设置，并且

其中所述陶瓷气体限制器具有在1mm与9mm之间的厚度。

2.根据权利要求1所述的气体限制器组件，其特征在于，所述覆盖件包括四个板，

其中所述板位于所述基板支撑件的顶部外周边上，并且设置在所述基板的外周边下方。

3.根据权利要求2所述的气体限制器组件，其特征在于，其中所述板包括一或多个带槽的定位销和固定螺杆，配置为使所述板彼此连结以形成所述覆盖件。

4.根据权利要求1所述的气体限制器组件，其特征在于，所述基底包含氧化铝。

5.根据权利要求1所述的气体限制器组件，其特征在于，所述陶瓷气体限制器具有内边缘，并且所述基板具有外边缘，并且从所述内边缘到所述外边缘的距离在1mm与5mm之间。

6.根据权利要求1所述的气体限制器组件，其特征在于，所述覆盖件定位成与所述基板重叠5mm或10mm的距离。

7.根据权利要求1所述的气体限制器组件，其特征在于，所述陶瓷气体限制器包含氧化铝。

8.根据权利要求2所述的气体限制器组件，其特征在于，所述板包含陶瓷材料。

9.一种处理腔室，所述处理腔室包括：

扩散器；

基板支撑件，所述基板支撑件定位成与所述扩散器相对地支撑基板；以及

气体限制器组件，所述气体限制器组件包括：

气体限制器，所述气体限制器围绕所述基板的外围定位，其中所述气体限制器包含氧化铝；

基底，所述基底具有：

下表面，所述下表面被支撑在所述基板支撑件上；

内部上表面和内部侧表面；以及

外部上表面，所述外部上表面支撑所述气体限制器；以及

覆盖件，所述覆盖件具有：

外部下表面，所述外部下表面由所述基底的所述内部上表面和所述内部侧表面支撑；以及

内部下表面，所述内部下表面由所述基板支撑件支撑，

其中所述气体限制器组件围绕所述基板支撑件的外围设置，并且

其中所述气体限制器具有在1mm与9mm之间的厚度。

10.根据权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述气体限制器具有内边缘，并且所述基板具有外边缘，并且从所述内边缘到所述外边缘的距离被配置为在1mm与5mm之间。

11.根据权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述覆盖件定位成与所述基板重叠5mm或10mm的距离。

12.根据权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述基底包含氧化铝。

13.根据权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述覆盖件包括四个板，

其中所述板位于所述基板支撑件的顶部外周边上，并且设置在所述基板的外周边下方。

14.根据权利要求13所述的处理腔室，其特征在于，所述板包括一或多个带槽的定位销和固定螺杆，配置为使所述板彼此连结以形成所述覆盖件。