[发明专利]一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910994256.1 申请日: 2019-10-18
公开(公告)号: CN110867500B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 杨平;刘志响 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0336;H01L31/074;H01L31/0224
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 转换 效率 si zno 异质结 太阳电池 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法,依次包括以下步骤:1)清洗硅片;2)制备中间层薄膜;3)氧化退火;4)制备AZO薄膜;5)制备背电极;6)安装掩模板;7)制备前电极;8)移除掩模板;9)还原退火,形成太阳能电池,p‑Si/n‑ZnO结构的太阳能电池以硅片作为衬底,中间层薄膜,正面N型AZO薄膜,前电极和背电极,各太阳能电池结构均采用磁控溅射技术,工艺简单,成本低,操作方便;采用的界面修饰方法简单,工艺过程及手段,操作方便,成本低;采用该界面修饰方法后能提高Si/ZnO异质结太阳电池转换效率。

技术领域

本发明涉及太阳能技术领域,具体涉及一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法。

背景技术

Si/ZnO异质结具有原材料丰富、低成本、工艺简单和绿色和拓宽光谱等优点,非常适合太阳电池领域,此外,Si/ZnO异质结构还广泛其他领域,比如光电二极管、UV探测器、卷积器、声学材料、油墨印制光电器件、气敏传感器和锂离子电池等。Si/ZnO异质结构的广泛应用,促使ZnO与先进成熟Si技术集成在一起。Si/ZnO异质结是电子电路的基本和核心构件,是微/纳光/电子器件关键核心部件,器件性主要受Si/ZnO异质结的影响。美国学者Kozarsky E制备Si/ZnO异质结太阳电池,开路电压Voc=360mV,短路电流密度Jsc=28.26mA/cm2,效率η=5.91%。俄罗斯学者Untila G制备Si/ZnO异质结太阳电池,效率η=8.3%。目前Si/ZnO太阳电池转换效率偏低,主要受Si/ZnO界面影响,影响其进一步应用。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足之处,提供一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法,提高了Si/ZnO异质结太阳电池转换效率。

本发明解决上述问题的技术方案为:一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法,依次包括以下步骤:

第一步:清洗硅片:取硅片,进行清洗;

第二步:制备中间层薄膜:在清洗好的硅片的一侧,采用磁控溅射技术,使用本征氧化锌混合制备中间层薄膜;

第三步:制备AZO薄膜:在中间层薄膜远离硅片的一侧,使用Al2O3掺杂ZnO靶材,采用磁控溅射技术,沉积AZO薄膜;

第四步:制备背电极:在硅片远离中间层薄膜的一侧,采用磁控溅射技术,制备背电极;

第五步:安装掩模板:在AZO薄膜远离中间层薄膜的一侧,安装掩模板;

第六步:制备前电极:采用磁控溅射技术,基于掩模板在AZO薄膜表面上制备前电极;

第七步:移除掩模板:待前电极制备完成之后,将掩模板移除,得到异质结太阳电池半成品;

第八步:还原退火:将太阳电池半成品进行还原退火形成异质结太阳电池。

进一步的,在第二步中采用磁控溅射制备AZO薄膜时,衬底温度是50-300℃。

进一步的,在进行制备AZO薄膜之前将制备好的中间层薄膜进行氧化退火。

进一步的,第三步氧化退火时,退火温度是300~600℃,保温时间20~60min,然后随炉冷却。

进一步的,在第四步中采用磁控溅射制备AZO薄膜时,衬底温度是50-300℃。

进一步的,在第五步中采用磁控溅射制备背电极时,衬底温度是50-300℃。

进一步的,在第七步中采用磁控溅射制备前电极时,衬底温度是50-300℃。

进一步的,所述前电极是“山”字形状。

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