[发明专利]一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法有效
申请号: | 201910994256.1 | 申请日: | 2019-10-18 |
公开(公告)号: | CN110867500B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 杨平;刘志响 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0336;H01L31/074;H01L31/0224 |
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地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 转换 效率 si zno 异质结 太阳电池 制备 方法 | ||
本发明提供了一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法,依次包括以下步骤:1)清洗硅片;2)制备中间层薄膜;3)氧化退火;4)制备AZO薄膜;5)制备背电极;6)安装掩模板;7)制备前电极;8)移除掩模板;9)还原退火,形成太阳能电池,p‑Si/n‑ZnO结构的太阳能电池以硅片作为衬底,中间层薄膜,正面N型AZO薄膜,前电极和背电极,各太阳能电池结构均采用磁控溅射技术,工艺简单,成本低,操作方便;采用的界面修饰方法简单,工艺过程及手段,操作方便,成本低;采用该界面修饰方法后能提高Si/ZnO异质结太阳电池转换效率。
技术领域
本发明涉及太阳能技术领域,具体涉及一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法。
背景技术
Si/ZnO异质结具有原材料丰富、低成本、工艺简单和绿色和拓宽光谱等优点,非常适合太阳电池领域,此外,Si/ZnO异质结构还广泛其他领域,比如光电二极管、UV探测器、卷积器、声学材料、油墨印制光电器件、气敏传感器和锂离子电池等。Si/ZnO异质结构的广泛应用,促使ZnO与先进成熟Si技术集成在一起。Si/ZnO异质结是电子电路的基本和核心构件,是微/纳光/电子器件关键核心部件,器件性主要受Si/ZnO异质结的影响。美国学者Kozarsky E制备Si/ZnO异质结太阳电池,开路电压Voc=360mV,短路电流密度Jsc=28.26mA/cm2,效率η=5.91%。俄罗斯学者Untila G制备Si/ZnO异质结太阳电池,效率η=8.3%。目前Si/ZnO太阳电池转换效率偏低,主要受Si/ZnO界面影响,影响其进一步应用。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足之处,提供一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法,提高了Si/ZnO异质结太阳电池转换效率。
本发明解决上述问题的技术方案为:一种高转换效率的Si/ZnO异质结太阳电池的制备方法,依次包括以下步骤:
第一步:清洗硅片:取硅片,进行清洗;
第二步:制备中间层薄膜:在清洗好的硅片的一侧,采用磁控溅射技术,使用本征氧化锌混合制备中间层薄膜;
第三步:制备AZO薄膜:在中间层薄膜远离硅片的一侧,使用Al2O3掺杂ZnO靶材,采用磁控溅射技术,沉积AZO薄膜;
第四步:制备背电极:在硅片远离中间层薄膜的一侧,采用磁控溅射技术,制备背电极;
第五步:安装掩模板:在AZO薄膜远离中间层薄膜的一侧,安装掩模板;
第六步:制备前电极:采用磁控溅射技术,基于掩模板在AZO薄膜表面上制备前电极;
第七步:移除掩模板:待前电极制备完成之后,将掩模板移除,得到异质结太阳电池半成品;
第八步:还原退火:将太阳电池半成品进行还原退火形成异质结太阳电池。
进一步的,在第二步中采用磁控溅射制备AZO薄膜时,衬底温度是50-300℃。
进一步的,在进行制备AZO薄膜之前将制备好的中间层薄膜进行氧化退火。
进一步的,第三步氧化退火时,退火温度是300~600℃,保温时间20~60min,然后随炉冷却。
进一步的,在第四步中采用磁控溅射制备AZO薄膜时,衬底温度是50-300℃。
进一步的,在第五步中采用磁控溅射制备背电极时,衬底温度是50-300℃。
进一步的,在第七步中采用磁控溅射制备前电极时,衬底温度是50-300℃。
进一步的,所述前电极是“山”字形状。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的