[发明专利]一种光罩和彩膜基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种制备方法，用以制备彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括封装区、显示区，所述显示区包括发光区和遮光区，所述封装区包括位于边侧的边侧区以及位于封装区中部的过渡区，所述制备方法包括以下步骤：

S1：提供一基底；

S2：沉积电极材料于所述基底上形成从所述显示区延伸至所述封装区的公共电极；

S3：涂布黑色光阻材料于所述公共电极上形成覆盖所述公共电极的黑色矩阵；

S4：提供一光罩，包括半透明区、遮挡区、全透明区，所述全透明区对应所述边侧区，所述遮挡区对应遮光区和所述封装区中除所述过渡区和所述边侧区之外的区域；所述半透明区对应所述发光区和过渡区；

S5：将所述光罩至于所述黑色矩阵上方，并向所述光罩提供光源，曝光显影所述黑色矩阵，以去除所述边侧区的所有的黑色矩阵以及所述发光区和过渡区中一定厚度的黑色矩阵；

S6：去除所述边侧区的所述公共电极，形成缺口；

S7：去除所述发光区和过渡区中的剩余的黑色矩阵。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S6中是通过湿蚀刻的方式去除所述边侧区的所述公共电极。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S7中是通过氧气灰化或干蚀刻的方式去除所述发光区和过渡区中的剩余的黑色矩阵；

支撑柱，设于阵列基板与所述彩膜基板之间，且位于所述遮光区，所述支撑柱与所述黑色矩阵相接。