[发明专利]步进曝光机的控制设备与控制方法在审

专利信息
申请号: 201910999042.3 申请日: 2019-10-21
公开(公告)号: CN112764316A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 林志明 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G06N3/04;G06N3/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 李芳华
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 步进 曝光 控制 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种步进曝光机的控制设备,包括:

输入装置,用以输入多个样本显影图,所述样本显影图由多个样本焦距值所获得;

生成装置,用以通过深度学习算法,产生对应于多个生成焦距值的多个生成分类;以及

处理装置,用以根据所述生成分类,分析在线显影图的估测焦距值。

2.如权利要求1所述的步进曝光机的控制设备,其中所述样本显影图根据所述样本焦距值及多个样本能量值所获得。

3.如权利要求2所述的步进曝光机的控制设备,其中所述样本焦距值与所述样本能量值组成一矩阵。

4.如权利要求1所述的步进曝光机的控制设备,其中所述生成分类对应于所述样本焦距值及多个生成能量值。

5.如权利要求4所述的步进曝光机的控制设备,其中所述生成能量值的数量多于所述样本能量值的数量。

6.如权利要求5所述的步进曝光机的控制设备,其中该处理装置还根据所述生成分类,分析该在线显影图的估测能量值。

7.如权利要求1所述的步进曝光机的控制设备,其中该深度学习算法包括自编码器算法。

8.如权利要求1所述的步进曝光机的控制设备,其中该深度学习算法包括生成对抗网络算法。

9.如权利要求1所述的步进曝光机的控制设备,其中所述生成焦距值的数量多于所述样本焦距值的数量。

10.如权利要求1所述的步进曝光机的控制设备,其中该处理装置依据该在线显影图与每个生成分类的隐藏层近似度进行分析。

11.一种步进曝光机的控制方法,包括:

根据多个样本焦距值,获得多个样本显影图;

通过深度学习算法,产生对应于多个生成焦距值的多个生成分类;

获得在线显影图;以及

根据所述生成分类,分析该在线显影图的估测焦距值。

12.如权利要求11所述的步进曝光机的控制方法,其中在根据所述样本焦距值,获得所述样本显影图的步骤中,所述样本显影图是由所述样本焦距值及多个样本能量值所获得。

13.如权利要求12所述的步进曝光机的控制方法,其中所述样本焦距值与所述样本能量值组成一矩阵。

14.如权利要求12所述的步进曝光机的控制方法,其中在通过该深度学习算法,产生对应于所述生成焦距值的所述生成分类的步骤中,所述生成分类对应于所述生成焦距值及多个生成能量值。

15.如权利要求14所述的步进曝光机的控制方法,其中所述生成能量值的数量多于所述样本能量值的数量。

16.如权利要求15所述的步进曝光机的控制方法,其中在根据所述生成分类,分析该在线显影图的该估测焦距值的步骤中,还分析该在线显影图的估测能量值。

17.如权利要求11所述的步进曝光机的控制方法,其中在通过该深度学习算法,产生对应于所述生成焦距值的所述生成分类的步骤中,该深度学习算法包括自编码器算法。

18.如权利要求11所述的步进曝光机的控制方法,其中在通过该深度学习算法,产生对应于所述生成焦距值的所述生成分类的步骤中,该深度学习算法包括生成对抗网络算法。

19.如权利要求11所述的步进曝光机的控制方法,其中所述生成焦距值的数量多于所述样本焦距值的数量。

20.如权利要求11所述的步进曝光机的控制方法,其中在根据所述生成分类,分析该在线显影图的该估测焦距值的步骤中,依据该在线显影图与每个生成分类的隐藏层近似度进行分析。

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