[发明专利]步进曝光机的控制设备与控制方法

说明书

一种步进曝光机的控制设备与控制方法。步进曝光机的控制设备包括输入装置、生成装置及处理装置。输入装置用以输入多个样本显影图。这些样本显影图由多个样本焦距值所获得。生成装置用以通过深度学习算法，产生对应于多个生成焦距值的多个生成分类。处理装置用以根据这些生成分类，分析在线显影图的估测焦距值。

技术领域

本发明是关于一种控制设备与控制方法，且特别是关于一种步进曝光机的控制设备与控制方法。

背景技术

随着半导体技术的发展，各式电子装置不断推陈出新。在芯片的制造过程中，需要经过曝光、显影、蚀刻等制程。光阻经由曝光制程后，于显影制程中呈现出遮罩图样，并通过此遮罩图样蚀刻金属层，以形成层线路。

因此，曝光制程的控制精准度将严重影响到蚀刻后的线路。传统上，操作人员可以调整步进曝光机的曝光能量，以期光阻能够显影出精准的图样。然而，在线宽尺寸要求越来越精细的情况下，步进曝光机需要更精准的调整，才能够形成更精密的线路。

发明内容

本发明是有关于一种步进曝光机的控制设备与控制方法，其利用人工智能技术来调校步进曝光机的光束焦距和/或曝光能量，以增进步进曝光机的精准度。

根据本发明的一方面，提出一种步进曝光机的控制设备。步进曝光机的控制设备包括输入装置、生成装置及处理装置。输入装置用以输入多个样本显影图。这些样本显影图由多个样本焦距值所获得。生成装置用以通过深度学习算法，产生对应于多个生成焦距值的多个生成分类。处理装置用以根据这些生成分类，分析在线显影图的估测焦距值。

根据本发明的另一方面，提出一种步进曝光机的控制方法。步进曝光机的控制方法包括以下步骤。根据多个样本焦距值，获得多个样本显影图。通过深度学习算法，产生对应于多个生成焦距值的多个生成分类。获得在线显影图。根据这些生成分类，分析在线显影图的估测焦距值。

为了对本发明的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例，并配合附图详细说明如下：

附图说明

图1示出根据一实施例的步进曝光机的控制设备的示意图。

图2示出根据一实施例的步进曝光机的控制方法的流程图。

图3说明图2的各步骤的示意图。

图4示出根据另一实施例的步进曝光机的控制方法的流程图。

图5说明图4的各步骤的示意图。

图6示出根据另一实施例的步进曝光机的控制方法的流程图。

图7说明图6的各步骤的示意图。

具体实施方式

请参照图1，其示出根据一实施例的步进曝光机(stepper)700的控制设备100的示意图。控制设备100包括输入装置110、生成装置120及处理装置130。输入装置110用以输入各种数据，例如是有线网络端口、无线网络收发模块、传输线、或USB端口。生成装置120用以进行数据的训练/生成等程序。处理装置130用以进行各种处理/分析的程序。生成装置120与处理装置130例如是电路、电路板、芯片、数组程序代码或储存程序代码的记录装置。

在本实施例中，生产线上的步进曝光机700对光阻完成曝光且进行显影后，由扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)800采集在线(On-line)显影图P70，并输入至控制设备100。控制设备100利用人工智能技术进行分析，即可获得估测焦距值F7。如此一来，可以通过估测焦距值F7来调校步进曝光机700的光束焦距，以使步进曝光机700的光束准确聚焦于光阻上，增进步进曝光机700的精准度。以下还通过流程图详细说明上述各项元件的运作。