[发明专利]晶圆位置检测装置、晶圆位置检测方法在审
申请号: | 201911001016.3 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN110729216A | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 袁林涛 | 申请(专利权)人: | 华虹半导体(无锡)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683;H01L21/66 |
代理公司: | 31211 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 罗雅文 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 上支撑杆 检测 下支撑杆 检测头 晶圆检测装置 光感应器 晶圆位置 驱动马达 中间驱动 支撑杆 晶圆 两组 马达 轨道 半导体制造技术 机台 位置检测装置 第二位置 第一位置 固定腔室 轨道运动 晶圆清洗 清洗过程 真空吸盘 沿检测 下端 种晶 破碎 申请 | ||
1.一种晶圆位置检测装置,其特征在于,包括支撑杆、U型检测头、至少两组光感应器、检测轨道和驱动马达;
所述支撑杆包括上支撑杆和下支撑杆,所述上支撑杆与所述下支撑杆通过中间驱动马达连接,所述上支撑杆的顶部连接所述U型检测头的底部,所述下支撑杆的底部固定在所述检测轨道内;
所述中间驱动马达用于令所述上支撑杆处于第一位置或第二位置;当所述上支撑杆处于第一位置时,所述上支撑杆与所述下支撑杆在同一条直线上;当所述上支撑杆处于第二位置时,所述上支撑杆与所述下支撑杆垂直;
所述U型检测头的两个侧边上设置有所述至少两组光感应器,每组光感应器包括接收器和发射器;
所述检测轨道上设置有下端驱动马达,所述下端驱动马达用于带动所述下支撑杆沿所述检测轨道运动。
2.根据权利要求1所述的晶圆位置检测装置,其特征在于,所述U型检测头的两个侧边互相平行;
所述U型检测头的底部与所述两个侧边垂直;
所述U型检测头的第一侧边设置有所述光感应器的发射器,所述U型检测头的第二侧边设置有所述光感应器的接收器。
3.根据权利要求2所述的晶圆位置检测装置,其特征在于,所有光感应器的发射器位于同一直线上且垂直于所述U型检测头的底部,所有光感应器的接收器位于同一直线上且垂直于所述U型检测头的底部;
每组光感应器的发射器和接收器的位置对应。
4.根据权利要求1所述的晶圆位置检测装置,其特征在于,所述U型检测头的开口宽度大于所述晶圆的厚度。
5.根据权利要求1所述的晶圆位置检测装置,其特征在于,所述下端驱动马达设置在所述检测轨道的一端。
6.根据权利要求1至5任一所述的晶圆位置检测装置,其特征在于,还包括若干个辅助定位器和挡片,所述若干个辅助定位器设置在所述检测轨道的下方,所述辅助定位器的中间设置有光传感器;
所述支撑杆的下方设置有所述挡片,所述挡片的长度大于所述辅助定位器与所述检测轨道之间的距离;当所述下端驱动马达带动所述下支撑杆沿所述检测轨道运动时,所述挡片经过所述辅助定位器的中间。
7.根据权利要求6所示的晶圆位置检测装置,其特征在于,所述辅助定位器的数量为双数,所述辅助定位器关于晶圆清洗机台上真空吸盘的中心对称。
8.一种晶圆位置检测方法,其特征在于,应用于如权利要求1至7任一所述的晶圆位置检测装置,所述方法包括:
通过所述中间驱动马达令所述上支撑杆处于所述第二位置;当所述上支撑杆处于第二位置时,所述上支撑杆与所述下支撑杆垂直,所述晶圆位于所述U型检测头的两个侧边之间;
通过所述下端驱动马达带动所述下支撑杆沿所述检测轨道运动;
获取所述U型检测头上每组光感应器对应的检测位置信号;
检测所述检测位置信号与标准位置信号是否匹配;
若检测到所述检测位置信号与所述标准位置信号匹配,则确定晶圆的中心位于晶圆清洗机台上真空吸盘的中心;
若检测到所述检测位置信号与所述标准位置信号不匹配,则确定晶圆的中心不位于晶圆清洗机台上真空吸盘的中心。
9.根据权利要求1所述的晶圆位置检测方法,其特征在于,每组检测位置信号和每组标准位置信号均包括两个特征点;
其中,第一特征点表示光传感器达到晶圆的边缘,第二特征点表示光传感器离开晶圆的边缘;
在所述标准位置信号中,第一特征点对应的晶圆边缘位置与第二特征点对应的晶圆边缘位置关于晶圆清洗机台上真空吸盘的中心对称。
10.根据权利要求9所述的晶圆位置检测方法,其特征在于,第一特征点为信号值从0变为1的点,第二特征点为信号值从1变为0的点。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造