[发明专利]磁悬浮旋转系统、快速热处理装置

说明书

一种磁悬浮旋转系统，其包括：转子；以及与所述转子同心间隔设置并环绕所述转子的定子；其中，所述转子的表面设有类金刚石薄膜，以降低所述转子的磨损。本发明还提供一种快速热处理装置。

技术领域

本发明涉及一种半导体领域，尤其涉及一种磁悬浮旋转系统及快速热处理装置。

背景技术

在半导体制程中，快速热处理系统技术(rapid thermal process,RTP)已被应用以提高芯片的生产效率。由于快速热处理的时间较短，因此保证待处理物件受热的均匀性是相当重要的。而磁性悬浮旋转系统(Magnetically-levitated rotor system)是一种能有效维持反应室内温度得均匀性的系统，常设置于快速热处理系统反应室中。然而，在利用磁性悬浮旋转系统时，现有的磁性悬浮旋转系统中元件之间的相互摩擦容易产生微粒，使得快速热处理腔室被污染，进而污染待处理物件。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种降低磨损的磁悬浮旋转系统。

还有必要提供一种降低磨损的快速热处理装置。

一种磁悬浮旋转系统，其包括：

转子；以及

与所述转子同心间隔设置并环绕所述转子的定子；

其中，所述转子的表面设有类金刚石薄膜。

进一步地，所述类金刚石薄膜的厚度小于1毫米。

一种快速热处理装置，其包括：

转子；

与所述转子同心间隔设置并环绕所述转子的定子；以及

转接件，安装于所述转子上；

其中，所述转接件至少与所述转子接触的区域及/或所述转子的表面中至少与所述转接件接触的区域设有类金刚石薄膜。

进一步地，所述类金刚石薄膜的厚度小于1毫米。

进一步地，所述转接件的整个表面均设有所述类金刚石薄膜。

进一步地，所述快速热处理装置还包括可转动地设置于所述转接件上的支撑环。

进一步地，所述支撑环的表面至少与所述转接件接触的区域设有所述类金刚石薄膜。

进一步地，所述快速热处理装置还包括承载在所述支撑环上的边缘环，所述边缘环的表面设有所述类金刚石薄膜。

一种快速热处理装置，其包括：

转子；

与所述转子同心间隔设置并环绕所述转子的定子；

转接件，安装于所述转子上；以及

支撑环，可转动地设置于所述转接件上；

其中，所述转接件的表面中至少与所述转子及所述支撑环接触的区域、及/或所述转子的表面中至少与所述转接件接触的区域及/或所述支撑环的表面中至少与所述转接件接触的区域设有类金刚石薄膜。

进一步地，所述类金刚石薄膜的厚度小于1毫米。

相较于现有技术，本发明的磁悬浮旋转系统中，所述转子的表面设有类金刚石薄膜，在所述转子与其他元件接触并摩擦时，所述类金刚石薄膜能够提高所述转子的耐磨性，同时减少所述转子因摩擦产生的微粒/粉末，从而减少对晶圆的污染。本发明的快速热处理装置中，所述转接件的表面、所述转子的表面及/或所述支撑环的表面设有类金刚石薄膜，使得所述快速热处理装置在使用时能够降低微粒/粉末的产生，从而减少对晶圆的污染，并且提高快速热处理装置的使用寿命。

附图说明