[发明专利]一种全绒面N型双面电池的制作方法在审
申请号: | 201911006602.7 | 申请日: | 2019-10-22 |
公开(公告)号: | CN111477719A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 杨露;刘大伟;宋志成;倪玉凤;张天杰 | 申请(专利权)人: | 国家电投集团西安太阳能电力有限公司;黄河水电西宁太阳能电力有限公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236;H01L31/068 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 安曼 |
地址: | 710099 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 全绒面 双面 电池 制作方法 | ||
1.一种全绒面N型双面电池的制作方法,其特征在于,所述全绒面N型双面电池的制作方法包括以下步骤:
S1、制绒:取一N型单晶硅基片,用NaOH溶液对所取的N型单晶硅基片表面进行清洗,对N型单晶硅基片的表面进行异性腐蚀以获得金字塔绒面,硅片减重为0.45-0.65g;
S2、磷扩散:采用高表面浓度浅结磷扩散工艺对硅基片的一面进行磷扩散,形成N型层;
S3、去PSG:将步骤S2中得到的硼扩散N型单晶硅基片放入到3%-8%的HF溶液清洗;
S4、磷扩散面镀SiNx膜:采用等离子增强化学气相沉积法对所述步骤S3得到的N型单晶硅基片镀SiNx膜;
S5、清洗1:采用3%的HF溶液清洗用以去除磷扩散面镀膜时产生的绕镀;
S6、硼扩散:反应温度为950℃,BBr3源量为300sccm,方阻为80Ω/Sqr,在炉管中以氮气携带BBr3蒸汽的方式对硅基片的一面进行硼扩散;
S7、清洗2:采用HF清洗工艺去除硼扩散形成的BSG,并采用浓度为5%的HNO3对N型单晶硅基片进行氧化钝化;
S8、正面镀Al2O3:对经过氧化钝化后的N型单晶硅基片正面镀Al2O3,厚度为1-3nm;
S9、正面镀SiNx薄膜:在正面镀有Al2O3的N型单晶硅基片表面镀SiNx薄膜,厚度为70-80nm;
S10、印刷和烧结:采用丝网印刷的方法在N型单晶硅基片的上表面和下表面印刷浆料,形成电池的正极和负极,然后在700-820℃的温度下,在烧结炉中进行烧结,即完成了N型双面电池的制作。
2.根据权利要求1所述的一种全绒面N型双面电池的制作方法,其特征在于,所述步骤S2中,工艺温度为750-850℃,方阻为60-80Ω/Sq。
3.根据权利要求1所述的一种全绒面N型双面电池的制作方法,其特征在于,所述步骤S4中,所述磷扩散面镀SiNx膜要求膜折射率为2.1-2.2,厚度为80-100nm。
4.根据权利要求1所述的一种全绒面N型双面电池的制作方法,其特征在于,所述步骤S6中,在进行硼扩散时,背面扩散的磷在高温下继续向内部推进,使得背面的表面浓度降低,结深增加,方阻升高至90Ω/Sq。
5.根据权利要求1所述的一种全绒面N型双面电池的制作方法,其特征在于,所述步骤S9中,所述镀有SiNx薄膜的N型单晶硅基片折射率为2.0-2.1。
6.根据权利要求1所述的一种全绒面N型双面电池的制作方法,其特征在于,所述步骤S10中,N型单晶硅基片正背均面采用LG浆料,峰值温度为760℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家电投集团西安太阳能电力有限公司;黄河水电西宁太阳能电力有限公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司,未经国家电投集团西安太阳能电力有限公司;黄河水电西宁太阳能电力有限公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911006602.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于缓解光伏组件PID衰减的方法
- 下一篇:一种用于公路系统的光伏墙
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的