[发明专利]阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 201911007163.1 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN110764327A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 廖辉华 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L23/544 |
| 代理公司： | 44570 深圳紫藤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对位标记 阵列基板 黑色矩阵层 衬底基板 制备 光阻材料层 对位光源 流平特性 准确对位 透过率 光阻 减薄 膜层 制程 申请 覆盖 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板、对位标记以及黑色矩阵层，所述对位标记位于所述衬底基板和所述黑色矩阵层之间，所述对位标记的厚度为1-2um。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述对位标记包括第一金属层和第二金属层，所述第一金属层和所述第二金属层在所述衬底基板和所述黑色矩阵层之间依次叠置。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层包括多条间隔分布的第一金属线，所述第二金属层包括多条间隔分布的第二金属线，所述第一金属线和所述第二金属线交叉分布，形成所述对位标记。
4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层厚度为0.5至1um，所述第二金属层厚度为0.5至1um。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，位于所述对位标记投影区域内的黑色矩阵层厚度为3至4um。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述对位标记位于所述阵列基板的非显示区。
7.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求1至6任一项所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上制备对位标记；
在对位标记远离所述衬底基板的一侧制备黑色矩阵层。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上制备对位标记包括：
在所述衬底基板上制备第一金属层；
在所述第一金属层上制备第二金属层，制备得到对位标记。
10.根据权利要求9所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述在对位标记远离所述衬底基板的一侧制备黑色矩阵层包括：
在所述衬底基板上涂布黑色材料层，其中，所述黑色材料层包覆所述对位标记；
以所述对位标记的位置为参照，对所述黑色材料层进行图案化处理，制备得到黑色矩阵层。
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