[发明专利]阵列基板及其制备方法

说明书

本申请实施例公开了一种阵列基板及其制备方法，阵列基板包括衬底基板、对位标记以及黑色矩阵层，对位标记位于衬底基板和黑色矩阵层之间，对位标记的厚度为1‑2um。本申请实施例中的阵列基板，在制备黑色矩阵层之前的阵列基板制程中，通过增加了对位标记的厚度，且在阵列基板的膜层整体高度不变的情况下，利用光阻流平特性，可减薄覆盖于对位标记上的黑色光阻材料层的厚度，从而增加了对位光源透过率，解决了BOA技术中黑色矩阵层无法准确对位的问题。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种阵列基板及其制备方法。

背景技术

液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。液晶显示装置通常液晶显示面板和背光模组。其中，液晶显示面板的结构主要是由一薄膜晶体管阵列(Thin Film Transistor Array，TFT Array)基板、一彩色滤光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid CrystalLayer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

COA(Color-filter on Array)技术是一种将彩色滤光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术，COA技术能够有效解决液晶显示装置对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，并能显著提升显示开口率。

在传统的液晶面板制备工艺中，各子像素间隙之间的黑色矩阵层直接形成在彩膜基板上，为彩膜基板的第一道制程，因此在黑色矩阵层的制备过程中不存在参考对位标记(mark)的问题。然而，在新的COA技术的液晶面板中，最初COA技术仅是将彩膜基板侧的红、绿、蓝三种彩膜层制备到阵列基板上；随着显示技术的发展，现已发展到彩膜阵列集成技术(Black Matrix ON Array，BOA)，能减少两个基板对位时的偏差，增加液晶显示面板的开口率，降低液晶显示面板的寄生电容，被广泛应用于液晶显示面板的制作中。将彩膜基板上所有膜层(包括黑色矩阵层、彩膜层和柱状隔垫物)都制备在阵列基板上，从而提高面板开口率，并且从根本上解决彩膜基板和阵列基板对盒时对位精度差的问题，避免因对位偏差引起的多种不良发生。

然而，不可回避的一个问题是，将彩膜基板上的黑色矩阵层制备到阵列基板上，存在曝光工艺时无法准确读取对位标记的问题。这是由于在制备黑矩阵之前，已经进行了其它图形的制程，因此在制备黑色矩阵层时需要识别前面制程各层结构中的对位标记。由于黑色矩阵层具有较高的光密度值(Optical Density，OD)，因此在黑色矩阵材料涂布后进行曝光工艺时，难以识别或无法识别到前面制程各层结构中的对位标记，进而影响其与掩模板的对位标记实现对位，导致曝光机难以准确对位甚至无法对位。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法，解决了BOA技术中黑色矩阵层无法准确对位的问题。

为解决上述问题，第一方面，本申请提供一种阵列基板，所述阵列基板包括衬底基板、对位标记以及黑色矩阵层，所述对位标记位于所述衬底基板和所述黑色矩阵层之间，所述对位标记的厚度为1-2um。

进一步的，所述对位标记包括第一金属层和第二金属层，所述第一金属层和所述第二金属层在所述衬底基板和所述黑色矩阵层之间依次叠置。

进一步的，所述第一金属层包括多条间隔分布的第一金属线，所述第二金属层包括多条间隔分布的第二金属线，所述第一金属线和所述第二金属线交叉分布，形成所述对位标记。

进一步的，所述第一金属层厚度为0.5至1um，所述第二金属层厚度为0.5至1um。

进一步的，位于所述对位标记投影区域内的黑色矩阵层厚度为3至4um。