[发明专利]固定系统、支撑板及用于其生产的方法

说明书

公开了一种用于固定柔性基板(16)的固定系统(10)，其包括处理装置(12)和与处理装置(12)分离的支撑板(14)。处理装置(12)包括具有真空开口(20)的支承表面(18)。支撑板(14)包括用于支撑基板(16)的支撑表面(26)和与处理装置(12)的支承表面(18)接触的连接表面(24)。支撑板(14)包括从支撑表面(26)延伸到连接表面(24)的通孔(28)，其中，通孔(28)中的至少一个流体连接到处理装置(12)的真空开口(20)中的一个。此外还公开了一种用于固定系统(10)的支撑板(14)以及用于生产支撑板(14)的方法。

技术领域

本发明涉及一种用于固定柔性基板的固定系统、用于固定系统的支撑板以及用于生产支撑板的方法。

背景技术

半导体加工机器(比如掩模对准器或端部执行器)使用真空保持器(例如吸盘)来向基板施加真空，以便保持它们以用于进一步加工。例如，掩模对准器使用真空保持器来定位基板(比如晶片)并使用掩模以用于随后暴露基板。

真空保持器通常被设计用于刚性基板，即在重力的作用下基本上不弯曲的基板。因此，真空保持器通常小于待保持的基板和/或仅在基板的中心区域中施加真空。

当加工柔性基板(比如箔片或薄晶片)时，这可能导致基板的弯曲、基板材料上的相当大的应力和/或真空保持器的表面结构在基板上的压印。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种能够保持柔性基板而没有上述缺点的固定系统。

根据本发明，通过用于固定柔性基板的固定系统来解决该问题，该固定系统包括处理装置和与该处理装置分离的支撑板。该处理装置包括具有真空开口的支承表面。支撑板包括用于支撑基板的支撑表面和与处理装置的支承表面接触的连接表面。支撑板包括从支撑表面延伸到连接表面的通孔，其中，通孔中的至少一个流体地连接到处理装置的真空开口中的一个。

为了固定柔性基板，柔性基板被定位在支撑板的支撑表面上，并且真空被施加至支承表面的真空开口。真空穿过支撑板的通孔并施加到基板上，基板从而被安全地固定在支撑表面上。

贯穿下文，表达“施加真空”表示流体从对应的区域中排出。例如，向真空开口施加真空意味着流体(例如空气或液体)从由真空开口限定的区域中排出。这对应于在相应区域中建立低于固定系统的环境中的参考压力的压力。

分离的支撑板被构造为刚性的，并且因此支撑柔性基板，特别是在柔性基板的整个区域上。因此，基板的弯曲、基板材料上的应力和压印影响都被有效地减少、甚至完全地避免了，同时柔性基板被固定以用于进一步加工。

支撑板被构造为附接至处理装置的附接部。为了处理不同种类和尺寸的基板，支撑板可以简单地用适用于特定基板和/或基板尺寸的另一支撑板替换。因此，对于多种不同的基板和基板尺寸，可以使用同一处理装置。

优选地，支撑板的面积大于待固定的基板的面积，使得支撑板在其整个面积上完全支撑柔性基板。

支撑板可以形成为盘或可以具有任意形式。特别地，支撑板的形状可以适用于匹配待固定的基板的特定形式。

在本发明的一具体实施例中，支撑板包括支撑表面中的真空槽，每个真空槽都流体地连接至至少一个通孔。经由真空槽，真空被分布到柔性基板的较大面积上，使得真空被更均匀地施加到柔性基板上。因此，由于施加的真空而作用在柔性基板上的力也更均匀地分布。因此，减少或甚至完全避免了基板材料上的应力和与不均匀压力分布相关的压印影响。

根据本发明的一方面，真空槽在支撑板的方位角方向上从支撑板的中心点径向向外和/或沿着与基板的轮廓类似的轮廓延伸。术语“类似”表示真空槽中的至少一个可以与柔性基板的至少部分轮廓相似。特别地，由真空槽中的至少一个限定的轮廓可以在数学意义上类似于(更具体地在尺寸上相等或缩放)柔性基板的轮廓。