[发明专利]一种CVD金刚石高真空光学窗装置在审
申请号: | 201911014788.0 | 申请日: | 2019-10-23 |
公开(公告)号: | CN112782821A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 赵芬霞;蒋荣方;刘宏明;王骏 | 申请(专利权)人: | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
主分类号: | G02B7/00 | 分类号: | G02B7/00;C30B29/04;C30B25/00 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 刘晓明 |
地址: | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 cvd 金刚石 真空 光学 装置 | ||
本发明公开了一种CVD金刚石高真空光学窗装置,包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔,所述连接件设于底座上,所述压紧件设于连接件远离底座的一端,所述压紧组件一端设于压紧件上,所述压紧组件另一端设于底座上,所述透光组件一端设于压紧件上,所述透光组件另一端设于底座上,所述金刚石光窗设于透光组件内,所述真空设备固定孔贯穿设于底座上,所述金刚石光窗为含有铅元素和磷元素的金刚石光窗,所述金刚石光窗通过CVD化学气相沉积法制得。本发明属于真空设备技术领域,具体是指一种莫氏硬度高,结构强度高,防电磁辐射,可观察等离子体辉光的高真空光学窗装置。
技术领域
本发明属于真空设备技术领域,具体是指一种CVD金刚石高真空光学窗装置。
背景技术
在真空低温环境下,采用摄影测量方法对航天器形变进行测量时,需要将摄影测量相机在容器内于不同位置对试件进行拍摄,然后进行测量,目前国内在真空低温环境下,用于摄影测量的保护舱采用的都是传统光学窗口,在工作过程中,真空设备光学窗口莫氏硬度低,对不均匀外力的抵抗能力弱,在发生碰撞时,容易漏气,导致实验最终失败,目前测量设备不具备抗电磁辐射干扰的能力,试验数据误差大,同时目前常见的真空设备光学窗口不具备观察等离子体辉光的功能,难以满足实验需求。
发明内容
为了解决上述难题,本发明提供了一种莫氏硬度高,结构强度高,防电磁辐射,可观察等离子体辉光的高真空光学窗装置。
为了实现上述功能,本发明采取的技术方案如下:一种CVD金刚石高真空光学窗装置,包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔,所述连接件设于底座上,所述压紧件设于连接件远离底座的一端,所述压紧组件一端设于压紧件上,所述压紧组件另一端设于底座上,所述透光组件一端设于压紧件上,所述透光组件另一端设于底座上,所述金刚石光窗设于透光组件内,所述金刚石光窗底部设于底座顶部,所述金刚石光窗顶部设于压紧件底部,所述真空设备固定孔贯穿设于底座上,压紧组件将压紧件、连接件和底座紧固在一起,真空设备固定孔用于该装置与真空设备的固定,所述金刚石光窗为金刚石单晶材质的金刚石光窗,同时含有铅元素和磷元素,通过CVD化学气相沉积法制得,整体尺寸为直径8cm,厚度1cm,加入铅元素可以有效防止电磁辐射,加入磷元素可以观察等离子体辉光。
进一步地,所述真空设备固定孔呈圆周均匀分布设于底座上。
进一步地,所述底座为316不锈钢材质的底座,整体尺寸为直径28cm,厚度2.0cm的圆柱。
进一步地,所述连接件为316不锈钢材质的连接件,整体尺寸为直径16cm,厚度1.2cm的圆柱。
进一步地,所述压紧件为316不锈钢材质的压紧件,整体尺寸为直径16cm,厚度1.0cm的圆柱。
进一步地,所述透光组件包括底座窗口、光窗放置槽和压紧件窗口,所述底座窗口贯穿设于底座上,所述光窗放置槽贯穿设于连接件上,所述压紧件窗口贯穿设于压紧件上,所述底座窗口为直径5cm的通孔,所述光窗放置槽为直径9cm的通孔,所述压紧件窗口为直径5cm的通孔。
进一步地,所述压紧组件包括压紧螺孔和六角形压紧螺丝,所述压紧螺孔一端设于压紧件上,所述压紧螺孔另一端设于底座上,所述六角形压紧螺丝可旋转设于压紧螺孔内,作为优选的,采用螺纹连接。
本发明采取上述结构取得有益效果如下:本发明提供的一种CVD金刚石高真空光学窗装置,该装置中的金刚石光窗通过CVD化学气相沉积法制得,含有铅元素和磷元素,一方面增加了光窗的结构强度,另一方面可以有效防止电磁辐射,同时可观察等离子体辉光,该光窗可以抵抗不均匀外力,用于真空设备上时,可获得更高的真空度。
附图说明
图1为本发明一种CVD金刚石高真空光学窗装置的整体结构图;
图2为本发明一种CVD金刚石高真空光学窗装置的剖视图。
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