[发明专利]光学特性评价方法以及光学特性评价系统有效

专利信息
申请号: 201911017114.6 申请日: 2019-10-24
公开(公告)号: CN111103241B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 增田修;平林和彦;田中博文;中岛孝治 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21;G02F1/13
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金兰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 特性 评价 方法 以及 系统
【权利要求书】:

1.一种光学特性评价方法,基于对评价对象的光学膜以及检偏振器进行了透射的光的偏振状态的分析,评价该光学膜的光学特性的不均匀性,所述方法的特征在于,

针对多个部位测量所述光学膜的相位差以及取向角,且使用表示入射光的偏振状态的矢量、和至少表示所述光学膜以及所述检偏振器的偏振特性的矩阵,基于通过下述运算式1而运算出的出射光的矢量的参数,对光学特性的不均匀性进行定量化并评价,

F2=M×F1 (运算式1)

其中,

F1:入射光的斯托克斯矢量;

F2:出射光的斯托克斯矢量;

M:针对评价对象的光学膜以及检偏振器的穆勒矩阵,

至少经过下述步骤(1)~(8),基于对所述光学膜进行了透射的光的偏振状态的分析,评价光学特性的不均匀性,

步骤1:针对评价对象的光学膜,选择规定面积的多个测量区域,针对该测量区域内包含的规定大小的各个像素,测量相位差以及取向角的步骤;

步骤2:用斯托克斯矢量表达并设定入射光的偏振状态的步骤;

步骤3:设定所述检偏振器的穆勒矩阵的步骤;

步骤4:针对各个所述像素,设定所述光学膜的穆勒矩阵的步骤;

步骤5:针对各个所述像素,使用所述运算式而计算出射光的斯托克斯矢量的步骤;

步骤6:针对各个所述像素,用规定比特数的浓淡度来表达所述出射光的斯托克斯矢量中的涉及光强度的参数的步骤;

步骤7:在所述浓淡度表达中设定阈值并进行二值化而表达的步骤;

步骤8:使用二值化而表达的结果来创建显示不均匀的指标的步骤。

2.根据权利要求1所述的光学特性评价方法,其特征在于,

所述出射光的矢量的参数通过下述运算式2来运算:

F2=f1×f2×F1 (运算式2)

其中,

f1:针对评价对象的光学膜的穆勒矩阵或者琼斯矩阵;

f2:针对检偏振器的穆勒矩阵或者琼斯矩阵。

3.根据权利要求1所述的光学特性评价方法,其特征在于,

将所述光学膜的取向角设为θ1并将所述检偏振器的透射轴方位设为θ2时,设定为满足下述式3的条件而进行运算,

|θ1-θ2|≤10° (式3)

其中,θ1≠θ2。

4.根据权利要求1所述的光学特性评价方法,其特征在于,

将所述光学膜的取向角设为θ1并将所述检偏振器的透射轴方位设为θ2时,设定为满足下述式4的条件而进行运算;

|θ1-θ2|≤2° (式4)

其中,θ1≠θ2。

5.一种光学特性评价系统,其基于对评价对象的光学膜以及检偏振器进行了透射的光的偏振状态的分析,评价该光学膜的光学特性的不均匀性,其特征在于,具备:

执行部,其针对多个部位测量所述光学膜的相位差以及取向角,且使用表示入射光的偏振状态的矢量、和至少表示所述光学膜以及所述检偏振器的偏振特性的矩阵,基于通过下述运算式1而运算出的出射光的矢量的参数,对光学特性的不均匀性进行定量化并评价,

F2=M×F1 (运算式1)

其中,

F1:入射光的斯托克斯矢量;

F2:出射光的斯托克斯矢量;

M:针对评价对象的光学膜以及检偏振器的穆勒矩阵,

至少经过下述步骤(1)~(8),基于对所述光学膜进行了透射的光的偏振状态的分析,评价光学特性的不均匀性,

步骤1:针对评价对象的光学膜,选择规定面积的多个测量区域,针对该测量区域内包含的规定大小的各个像素,测量相位差以及取向角的步骤;

步骤2:用斯托克斯矢量表达并设定入射光的偏振状态的步骤;

步骤3:设定所述检偏振器的穆勒矩阵的步骤;

步骤4:针对各个所述像素,设定所述光学膜的穆勒矩阵的步骤;

步骤5:针对各个所述像素,使用所述运算式而计算出射光的斯托克斯矢量的步骤;

步骤6:针对各个所述像素,用规定比特数的浓淡度来表达所述出射光的斯托克斯矢量中的涉及光强度的参数的步骤;

步骤7:在所述浓淡度表达中设定阈值并进行二值化而表达的步骤;

步骤8:使用二值化而表达的结果来创建显示不均匀的指标的步骤。

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