[发明专利]寡核苷酸的合成方法、合成装置

说明书

本申请提供了一种寡核苷酸的合成方法、合成装置。该方法包括：在第一微阵列底板的亲水区加入第一化合物，通过亲水区中的羟基和第一化合物的羧基进行反应，得到包括羧基的第二化合物，并在该亲水区通过第二化合物和带有羟基的胸苷进行反应，在该亲水区得到合成的寡核苷酸。上述技术方案可以仅对底板进行一次修饰，即可合成寡核苷酸，能够提高寡核苷酸的合成效率，降低寡核苷酸的制作成本，使得整个操作流程耗时较短。

技术领域

本申请涉及生物技术领域，并且更具体地，涉及寡核苷酸的合成方法、合成装置。

背景技术

寡核苷酸是近年来研究和了解新基因功能的重要载体物质，实现寡核苷酸合成具有重要意义及良好的市场前景。固相合成法是一种将反应物连接在一个不溶性的固相载体上的一种合成方法。

目前，亚磷酰胺单体固相合成法是主流的一种合成寡核苷酸的方法。现有的亚磷酰胺单体固相合成法中，需要对合成寡核苷酸的固相载体进行修饰，同时，还需要对亚磷酰胺单体进行琥珀酸修饰。现有技术中，需要进行两次修饰，使得整个操作流程耗时较长，制作成本较高，合成效率较低。

因此，如何更高效的合成寡核苷酸，提高寡核苷酸的合成效率成为当前亟需要解决的问题。

发明内容

本申请提供一种寡核苷酸的合成方法、合成装置，能够提高寡核苷酸的合成效率，降低寡核苷酸的制作成本，使得整个操作流程耗时较短。

第一方面，提供了一种寡核苷酸的合成方法，该方法包括：对底板进行处理，得到第一微阵列底板，该底板包括亲水区，在该亲水区加入第一化合物，通过亲水区中的羟基和第一化合物的羧基进行反应，得到包括羧基的第二化合物，并在该亲水区通过第二化合物和带有羟基的胸苷进行反应，在该亲水区得到合成的寡核苷酸。

应理解，该亲水区中包括羟基，该第一化合物和第二化合物均为包括羧基的化合物。

上述技术方案中，通过在第一微阵列底板的亲水区加入第一化合物对该底板进行修饰，使得该第一微阵列底板上暴露出羧基，从而可以通过该羧基直接与胸苷中的羟基进行反应，合成寡核苷酸。本申请中仅对底板进行一次修饰，即可合成寡核苷酸，能够提高寡核苷酸的合成效率，降低寡核苷酸的制作成本，使得整个操作流程耗时较短。

在一种可能的实现方式中，所述方法还包括：在所述第一微阵列底板的亲水区加入溴异丁酰溴BIBB溶液，并在所述亲水区中与所述第一化合物发生原子转移自由基聚合ATRP反应，生成所述第二化合物。

上述技术方案中，通过ATRP反应实现亲水区的一个羟基上可以枝接多个羧基，该多个羧基可以合成多个寡核苷酸，从而提高寡核苷酸的合成效率。

在另一种可能的实现方式中，所述第一化合物为聚丙烯酸。

上述技术方案中，聚丙烯酸的结构较简单，从而可以更容易实现寡核苷酸的合成。

在另一种可能的实现方式中，所述方法还包括：对所述第二微阵列底板的亲水区进行氨水解处理，得到寡核苷酸和带有氨基的第三微阵列底板。

上述技术方案中，可以通过氨水解的方式将寡核苷酸从底板的亲水区中剥离，得到寡核苷酸。

在另一种可能的实现方式中，所述方法还包括：在所述带有氨基的第三微阵列底板上加入碳酸钠-甲醇溶液，得到所述第一微阵列底板。

上述技术方案中，可以通过加入碳酸钠-甲醇溶液得到第一微阵列底板，在下一次合成寡核苷酸的过程中，可以直接使用第一微阵列底板中亲水区中包括的羟基进行合成，避免制作包括亲水区的第一微阵列底板，实现第一微阵列底板的重复利用。