[发明专利]一种镜片镀膜加工工艺、镜片及计算机存储介质

说明书

本发明涉及镜片基片镀膜领域，公开一种镜片镀膜加工工艺、镜片及计算机存储介质，本发明是在3.0^‑5Pa或3.0^‑6Pa真空条件下，将与基片折射率对应的加硬材料附着在基片上，然后采用高纯镀膜材料五氧化三钛和二氧化硅对镜片镀膜，根据不同的镀膜材料匹配不同的镀膜工艺，使镀膜材料的在基片上稳定附着，是一种超低反增透膜加工工艺。

技术领域

本发明涉及镜片加工技术领域，具体涉及一种镜片镀膜加工工艺、镜片及计算机存储介质。

背景技术

在眼镜片的生产过程中，镜片的镀膜是极为重要的一个步骤。现有的镜片镀膜工艺镀膜真空条件为5.0^-3pa或5.5^-4pa，镀膜材料主要为氟化镁、氧化锆、一氧化硅，膜层偏厚，附着不稳定，能达到的透光率较低，约为92％-95％，较低的透光率会造成镜片的颜色反光较强，会导致消费者视野较暗；且容易造成镜面彩虹现象，个别颜色的透过率会较低，光线经过膜层后转换成有害颜色光的比例较大，从而出现偏色问题，伤害使用者眼睛。

发明内容

针对上述问题，本发明提供一种镜片镀膜加工工艺、镜片及计算机存储介质，能够提高镀膜材料的附着稳定性，改善透光率问题。

本发明的目的采用以下镀膜技术方案来实现：

本发明第一方面提供了一种镜片镀膜加工工艺，该工艺包括以下步骤：

设置镀膜真空室的压强为3.0^-5Pa或3.0^-6Pa；

在所述镀膜真空室内对镜片基片进行镀膜，包括：在镜片基片上附着一层与所述镜片基片的折射率对应的加硬材料，在附着所述加硬材料的镜片基片上依次镀上二氧化硅层、五氧化三钛层、二氧化硅层、五氧化三钛层、二氧化硅层和防水层，形成镀膜镜片；

待所述镀膜镜片冷却3分钟，取下，在室温下进行冷却，所述室温控制在24±2℃。

根据本发明第一方面的一种能够实现的方式，镀膜真空室内的温度控制在20℃至22℃之间，湿度在40％至50％之间。

根据本发明第一方面的一种能够实现的方式，所镀上的二氧化硅层厚度为28-33nm，五氧化三钛层的厚度为16-22nm，二氧化硅层的厚度为26-30nm，五氧化三钛层的厚度为110-130nm，二氧化硅层厚度为82-31nm，防水层的厚度为13-28nm。

根据本发明第一方面的一种能够实现的方式，镀所述五氧化三钛层的速率为0.3nm/s，镀所述二氧化硅层的速率为1.2nm/s。

根据本发明第一方面的一种能够实现的方式，所述五氧化三钛层镀膜时采用离子源辅镀，离子源电压控制130V，阳极电流1.30A，阴极电流在18.000A，中性电流在-2.000A，设定允许最大误差≤2。

本发明第二方面提供了一种镜片，所述镜片包括镜片基底和镀膜层，所述镜片基底和镀膜层之间设有加硬材料。

根据本发明第二方面的一种能够实现的方式，所述镀膜层由二氧化硅层、五氧化三钛层、二氧化硅层、五氧化三钛层、二氧化硅层和防水层组成。

根据本发明第二方面的一种能够实现的方式，所述二氧化硅层厚度为28-33nm，五氧化三钛层的厚度为16-22nm，二氧化硅层的厚度为26-30nm，五氧化三钛层的厚度为110-130nm，二氧化硅层厚度为82-31nm，防水层的厚度为13-28nm。

本发明第三方面提供了一种镜片，所述镜片由上述的镜片镀膜加工工艺制备而成。