[发明专利]极紫外线反射结构、极紫外线聚光器及极紫外线光罩在审
| 申请号： | 201911021395.2 | 申请日： | 2019-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN111123419A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 邱俊傑;蒯光国;郑文豪 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 紫外线 反射 结构 聚光器 | ||
1.一种极紫外线反射结构，其特征在于，包括:
一基板；以及
多对硅层体与钼层体，设置于该基板之上，其中该硅层体包括多个孔洞。
2.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于，所述多个孔洞在二个方向上以相同间距排列在一矩阵中。
3.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于，该硅层体的厚度Ts和该钼层体的厚度Tm满足Ts：Tm＝5：5至7：3。
4.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于，没有孔洞设置在该钼层体中。
5.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于，每一所述孔洞完全嵌入在该硅层体中。
6.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于，所述多个孔洞的其中一面由该钼层体所覆盖。
7.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于，所述多个孔洞具有与该硅层体相同的厚度。
8.根据权利要求1所述的极紫外线反射结构，其特征在于：
所述多个孔洞排列成矩阵，且所述多个孔洞在一个方向上具有间距p1，在与该方向交叉的另一个方向上具有间距p2，并且该硅层体具有厚度t，每一所述多个孔洞的体积Vn满足0.3≤Vn/(t×p1×p2)≤0.9。
9.一种极紫外线聚光器，其特征在于，包括:
一基板，该基板具有一弯曲上表面；以及
多对硅层体与钼层体，设置于该弯曲上表面之上，其中该硅层体具有多个孔洞。
10.一种极紫外线光罩，其特征在于，包括:
一基板；
一多层结构，设置于该基板之上，该多层结构包括多对硅层体与钼层体；以及
一吸收层，设置于该多层结构之上，其中该硅层体具有多个孔洞。
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