[发明专利]一种静电消除装置和方法以及电子扫描显微镜

说明书

本发明公开了一种静电消除装置，通过接地部件、第一静电传输部件以及第二静电传输部件之间的配合来对晶圆表面的静电电荷残留进行释放，避免由于静电无法释放完全导致影响后续制程的情况产生。其中所述第一静电传输部件设置在所述接地部件上，所述第二静电传输部件设置在所述晶圆表面。本发明提供的装置的硬件成本与现有技术比较相对较低，且操作方法简单。本发明还提出一种电子扫描显微镜，可在电子扫描显微镜上安装可移动的导电pin针，在电子扫描显微镜量测结束后，通过导电pin针接触晶圆的方式将晶圆上残留的静电电荷导出。且不改变晶圆原有的制程，也无需另设机台。本发明还提出一种静电消除方法，利用所述装置。

技术领域

本发明涉及晶圆制造领域，尤其是涉及一种静电消除装置和方法以及电子扫描显微镜。

背景技术

随着半导体技术的发展，对于晶圆制程中缺陷的管控也越来越严格，然而传统的光学缺陷检测已不能满足晶圆制程中的缺陷的检测工作。电子扫描显微镜由于其具有分辨率高，图像立体，此外还可以进行成分分析及发现电学缺陷等优点而成为晶圆制程中缺陷分析的重要工具。

电子扫描显微镜的原理是利用电子枪1发射电子，电子打在物体表面和表面原子的轨道电子或原子核相互作用形成二次电子和背散射电子，最后探测器2通过收集二次电子或背散射电子模拟形成图像。如图1所示，由于电子扫描显微镜利用电子束扫描成像，晶圆3在经过电子扫描显微镜的扫描后会有一些电荷残留，对于晶圆上导电性能不好的层(layer)，如65NOR SPA1 ASI layer，其晶背有ONO(Oxide-Nitride-Oxide)结构会导致电子难以释放，对后面的制程造成影响，从而造成晶圆缺陷的产生。现有技术中针对会对后续制程造成缺陷的影响，只能选择关闭站点，在后道制程进行监控，但在实际监控过程中会影响时效性，扩大问题的影响，对生产厂家造成损失。

专利CN109451642A公开了一种静电消除装置及减少晶圆表面的静电电荷残留的方法，所述装置包括静电消除单元和容置单元，所述容置单元的内部具有一用于容置所述晶圆的容置腔，所述容置单元开设有至少一个与所述容置腔相连通的开口，所述静电消除单元固定连接于所述容置腔中，所述静电消除单元用于在非真空环境下提供电离的正负离子对所述晶圆进行静电消除。所述专利公开的技术方案相当于在晶圆原有制程的流程外另外加入了一组机台和流程专门用于静电消除，且其方案需要很多硬件支持，成本高，操作流程复杂。

因此，需要提出一种硬件成本低且操作简单的用于静电消除的方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种静电消除装置和方法以及电子扫描显微镜，用以解决现有技术中需要很多硬件支持，成本高，操作流程复杂等问题。

为了解决上述技术问题，本发明的第一方面提出一种静电消除装置，用于消除晶圆表面的静电电荷，包括接地部件、第一静电传输部件以及第二静电传输部件；

所述第一静电传输部件设置在所述接地部件上，所述第二静电传输部件设置在所述晶圆表面；

当所述第一静电传输部件与所述第二静电传输部件接触时，所述晶圆表面的静电电荷依次通过所述第二静电传输部件、所述第一静电传输部件、所述接地部件，所述接地部件接地以将所述晶圆表面的静电电荷导出。

可选的，所述第一静电传输部件包括导电pin针，当所述导电pin针与所述第二静电传输部件接触时，所述晶圆表面的静电电荷依次通过所述第二静电传输部件、所述导电pin针、所述接地部件。

可选的，所述导电pin针的数量为多个。

可选的，所述第二静电传输部件包括导电衬垫，当所述导电pin针与所述导电衬垫接触时，所述晶圆表面的静电电荷依次通过所述导电衬垫和所述导电pin针传入所述接地部件。

可选的，所述导电衬垫设置在所述晶圆的切割线内。