[发明专利]一种基于流体压强的非接触式吸盘

权利要求书

1.一种基于流体压强的非接触式吸盘，包括吸盘主体（1），其特征在于：所述吸盘主体（1）顶端的中部设有送风管路（2），且送风管路（2）与吸盘主体（1）的内腔连通，所述送风管路（2）外表面的底部且位于吸盘主体（1）的顶部固定安装有安装支架（3），所述送风管路（2）的内壁设有固定支架（4），所述固定支架（4）的底端贯穿并延伸至吸盘主体（1）内部且固定安装有分流导板（6），所述吸盘主体（1）内腔的底部均匀的设有三组侧面挡板（7），三组所述侧面挡板（7）的内部且位于分流导板（6）的正下方设有硅晶片（8）；

所述吸盘主体（1）设为半球型空心结构；

所述分流导板（6）的上半部设为与吸盘主体（1）的内壁弧度相同的弧形结构，且吸盘主体（1）与分流导板（6）之间的间隙为3～5mm，而分流导板（6）的下半部设为曲面锥形结构；

所述侧面挡板（7）的顶端设有弧形结构，且三组侧面挡板（7）中内切圆的直径大于硅晶片（8）的直径2mm；

利用安装支架（3）将该非接触式吸盘螺纹连接在驱动装置上，然后将其移动到硅晶片（8）的正上方5～8mm处，同时接通送风管路（2）内部的气体管道并向其通入高速气流，在分流导板（6）的阻隔作用下，高速气流沿着吸盘主体（1）与分流导板（6）之间的间隙流动并带动分流导板（6）底部的气体随之一起流动，使得吸盘主体（1）内腔中的气体流速较大、压强较小，而与硅晶片（8）底部的大气压强形成压力差并产生托举力，克服硅晶片（8）所受的重力而使其悬浮起来，在硅晶片（8）悬浮到一定的高度后与三组侧面挡板（7）的内部之间发生点接触，使得硅晶片（8）可以吸附并固定在该吸盘的底部而不会与其发生较大面积的接触。