[发明专利]一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法

权利要求书

1.一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法，其特征在于：包括以下制备步骤：

(1)高纯氨的制备：将液氨进行气化，进入氨气过滤器，除去金属与非金属杂质，得到纯化气；

(2)高纯水的制备：自来水先通过阴阳离子交换柱除去大部分阴阳离子，然后经过微孔过滤器过滤得到普通去离子水，去离子水再采用多级反渗透，电渗析膜处理进一步纯化，最后配以杀菌和超微过滤得到高纯水；

(3)电子级氢氟酸的制备：将高纯氟化氢气体和高纯水一起进入吸收塔中，在吸收塔中氟化氢气体与高纯水充分接触吸收，制成高纯氢氟酸粗品，粗品经超净过滤得电子级氢氟酸；

(4)将步骤(1)制备的高纯氨通入装有步骤(3)制得的电子级氢氟酸溶液的合成槽中，进行气液相一步反应生成氟化铵，反应压力为80-100kPa，反应温度为15-50℃，冷却后进入氟化铵合成槽，再加入步骤(2)制备的高纯水，自循环20-24h，得到氟化铵成品。

2.根据权利要求1所述的一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法，其特征在于：步骤(4)中，先用步骤(2)制备的高纯水稀释电子级氢氟酸，再将步骤(1)制备的高纯氨通入稀释后的电子级氢氟酸溶液中，进行气液相一步反应生成氟化铵。

3.根据权利要求1所述的一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法，其特征在于：步骤(3)中高纯氟化氢气体和高纯水的投入重量比为1-1.2:1。

4.根据权利要求1所述的一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法，其特征在于：步骤(4)中高纯氨和电子级氢氟酸的摩尔比为1:1。

5.根据权利要求1所述的一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法，其特征在于：步骤(4)中反应压力为90-95kPa，反应温度为25-35℃。